[发明专利]化合物和包含其的光学膜在审

专利信息
申请号: 202180009639.4 申请日: 2021-03-04
公开(公告)号: CN114981278A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 文相弼;李度亦喜武;李浩勇 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C07F3/06 分类号: C07F3/06;C07F15/06;C07F15/04;C07F15/00;G02F1/1335;H01L27/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 赵丹;俱玉云
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 化合物 包含 光学
【权利要求书】:

1.一种由以下化学式1表示的化合物:

[化学式1]

其中,在化学式1中,

X为Zn;Co;Ni或Pd;

R1至R14彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;卤素基团;腈基;硝基;-C(=O)OR;-(C=O)NR’R”;-CHO;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的芳氧基;经取代或未经取代的杂芳氧基;经取代或未经取代的芳基硫基;经取代或未经取代的杂芳基硫基;经取代或未经取代的烷基硫基;经取代或未经取代的芳基;或者经取代或未经取代的杂芳基;

R3、R4、R10和R11中的至少一者为经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的芳氧基;经取代或未经取代的杂芳氧基;经取代或未经取代的芳基硫基;经取代或未经取代的杂芳基硫基;或者经取代或未经取代的烷基硫基;

R2、R5、R9和R12中的至少一者为卤素基团;腈基;硝基;-C(=O)OR;-(C=O)NR’R”;-CHO;经取代或未经取代的芳基;经氟取代的烷基;或者经取代或未经取代的杂芳基;以及

R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;或者经取代或未经取代的杂芳基。

2.根据权利要求1所述的化合物,其中R1、R6、R8和R13彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的环烷基;经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的芳氧基;经取代或未经取代的杂芳氧基;经取代或未经取代的芳基硫基;经取代或未经取代的杂芳基硫基;或者经取代或未经取代的烷基硫基。

3.根据权利要求1所述的化合物,其中R3、R4、R10和R11为经取代或未经取代的烷氧基;经取代或未经取代的芳氧基;经取代或未经取代的杂芳氧基;经取代或未经取代的芳基硫基;经取代或未经取代的杂芳基硫基;或者经取代或未经取代的烷基硫基。

4.根据权利要求1所述的化合物,其中R7和R14彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的烷基;经取代或未经取代的芳基;或者经取代或未经取代的杂芳基。

5.根据权利要求1所述的化合物,其中由化学式1表示的所述化合物由以下化学式中的任一者表示:

在所述化学式中,

Me意指甲基,以及Et意指乙基。

6.一种用于形成光学膜的组合物,所述组合物包含:

粘结剂树脂;和

根据权利要求1至5中任一项所述的化合物。

7.根据权利要求6所述的用于形成光学膜的组合物,其中在100重量%的所述粘结剂树脂中,所述化合物的含量为0.001重量%至10重量%。

8.一种光学膜,包含其中分散有根据权利要求1至5中任一项所述的化合物的树脂基体。

9.根据权利要求8所述的光学膜,其中在100重量%的所述光学膜中,由化学式1表示的所述化合物的含量为0.001重量%至10重量%。

10.根据权利要求8所述的光学膜,其中在所述光学膜的最大吸收波长值下的背光下测量的初始吸收强度与1000小时之后测量的吸收强度之间的变化率为93%至99.9%。

11.一种显示装置,包括根据权利要求8所述的光学膜。

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