[发明专利]用于借助于多个带电粒子子束来检查样品的方法和设备在审

专利信息
申请号: 202180008000.4 申请日: 2021-01-05
公开(公告)号: CN114902037A 公开(公告)日: 2022-08-12
发明(设计)人: A·P·J·埃夫廷;S·V·邓霍德 申请(专利权)人: 戴尔米克知识产权私人有限公司
主分类号: G01N23/2252 分类号: G01N23/2252;H01J37/317
代理公司: 重庆智鹰律师事务所 50274 代理人: 唐超尘;刘贻行
地址: 荷兰代*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 借助于 带电 粒子 子束来 检查 样品 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种借助于多束带电粒子检查设备来检查样品的方法,其特征在于,多束带电粒子检查设备配置成将带电粒子子束阵列投射在所述样品上的曝光区域内,其中多束带电粒子检查设备包括检测系统,该检测系统用于检测由于带电粒子子束阵列与样品的相互作用而由样品发出的、来自所述曝光区域的X射线和/或阴极发光,其中该方法包括以下步骤:

在所述样品上的曝光区域内投射带电粒子子束阵列;以及

监测源于所述带电粒子子束阵列的基本上所有带电粒子子束与样品的相互作用的X射线和/或阴极发光的组合发射。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述多束带电检查设备布置成检测所述组合发射的强度、所述组合发射的光谱和/或在所述组合发射中发射所述X射线和/或阴极发光的激发物质的寿命,并且其中,所述方法包括以下步骤:

监测所述组合发射的激发物质的强度、光谱和寿命中的至少一个。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,进一步包括以下步骤:

沿着扫描路径在样品上扫描带电粒子子束阵列;以及

在所述扫描期间根据沿着所述扫描路径的位置监测所述组合发射。

4.根据权利要求1、2或3所述的方法,其特征在于,所述方法包括以下步骤:

将检测到的组合发射与预定阈值进行比较;并且

记录所述曝光区域中所述组合发射超过所述预定阈值的位置。

5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,以预定光子能量和/或波长检测所述组合发射。

6.根据权利要求4或5所述的方法,其特征在于,使用单个带电粒子束检查所述位置处的所述曝光区域,其中所述方法包括以下步骤:

将所述单个带电粒子束投射到所述样品上,并在所述位置处的所述曝光区域上扫描所述单个带电粒子束;以及

在所述单个带电粒子束的所述扫描期间根据所述曝光区域内的位置监测X射线和/或阴极发光的发射。

7.一种多束带电粒子检查设备,其特征在于,所述多束带电粒子检查设备配置成将带电粒子子束阵列投射在样品上的曝光区域内,其中所述多束带电粒子检查设备包括检测系统,所述检测系统配置成用于检测来自所述曝光区域的所述带电粒子子束阵列的基本上所有带电粒子子束的X射线和/或阴极发光的组合发射,由于所述带电粒子子束阵列的带电粒子子束与所述样品的相互作用而由所述样品发射所述X射线和/或阴极发光的组合发射,其中所述多束带电粒子检查设备包括控制器,所述控制器配置成控制所述检查设备的工作以执行根据权利要求1至6中任一项所述的方法。

8.根据权利要求7所述的多束带电粒子检查设备,其特征在于,进一步包括:

扫描组件,所述扫描组件用于沿着扫描路径在所述样品上扫描所述带电粒子子束阵列;以及

数据处理系统,所述数据处理系统适于在所述带电粒子子束阵列的所述扫描期间根据沿着所述扫描路径的位置监测来自所述曝光区域的X射线和/或阴极发光的组合发射以构建低分辨率图像,和/或适于在所述单个带电粒子束的所述扫描期间根据所述曝光区域内的位置监测X射线和/或阴极发光光子的发射以构建高分辨率图像。

9.根据权利要求7或8所述的多束带电粒子检查设备,其特征在于,所述检测系统包括光谱仪,所述光谱仪配置成获得来自所述组合发射的光谱的至少一部分。

10.一种具有指令的计算机程序,所述指令在被加载到多束带电粒子检查设备的控制器上时适于执行根据权利要求1至6中任一项所述的方法。

11.一种计算机可读介质,其上记录有根据权利要求10所述的计算机程序。

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