[实用新型]一种线圈调节连接器

说明书

本实用新型公开了一种线圈调节连接器，属于线圈调节装置技术领域，包括横板，所述横板的上端一侧设置有上端块，所述横板的下端另一侧设置有下端块，所述上端块的中间设置有横向贯穿的销孔，所述下端块的中间设置有纵向贯穿的轴孔一，所述横板的上端靠近上端块的一侧设置有轴孔二。本实用新型通过重新设计线圈调节连接器，减少连接器厚度，横板厚度较原来减少一半，横板的上端一侧设置有上端块，横板的下端另一侧设置有下端块，使连接器呈近似“Z”字型结构，不易被下方挡板遮挡导致行程不足，使得线圈可下拉幅度提升，下拉幅度由15MM，提高到20MM，应线圈温场可调空间增大10℃，对工艺调节起到积极作用。

技术领域

本实用新型属于线圈调节装置技术领域，具体涉及一种线圈调节连接器。

背景技术

目前外延生长中为生产提供热能的方法有两种：第一种，是线圈加热，就是对线圈提供电流产生电场从而使石墨基座在此电场内产生热量，为生产提供热能。第二种，就是灯管加热，也就是高电阻灯管直接在电流作用下产生热能的方法。

因为外延生长必须在高温下进行，通常需要1100℃左右，所以不管是以上提到的哪种加热方式都是外延生长必不可少的一部分，而外延生长中，不管对于外延生长的厚度还是外延生长下硅片的阻值都需要达到一个均匀性的要求，所以在此前提之下对于第一种加热方式中线圈调节连接器的作用更加突出，增加线圈调节的可调性将对外延生长温场的调节起到重要作用，也即对外延生长下硅片的阻值厚度均匀性起到积极作用，但在现有线圈调节连接器使用下，由于可调空间较小，温场调节已达到瓶颈，无法满足硅片外延生产中阻值厚度均匀性的要求，造成使用不便。

实用新型内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种线圈调节连接器，具有提升了在外延生长过程中硅片阻值厚度均匀性的可调性，产品品质得到提升的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种线圈调节连接器，包括横板，所述横板的上端一侧设置有上端块，所述横板的下端另一侧设置有下端块，所述上端块的中间设置有横向贯穿的销孔，所述下端块的中间设置有纵向贯穿的轴孔一，所述横板的上端靠近上端块的一侧设置有轴孔二。

优选的，所述上端块、下端块和横板为一体式成型结构。

优选的，所述上端块的高度与下端块的高度一致。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过重新设计线圈调节连接器，减少连接器厚度，横板厚度较原来减少一半，横板的上端一侧设置有上端块，横板的下端另一侧设置有下端块，使连接器呈近似“Z”字型结构，不易被下方挡板遮挡导致行程不足，使得线圈可下拉幅度提升，下拉幅度由15MM，提高到20MM，应线圈温场可调空间增大10℃，对工艺调节起到积极作用。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图中：1、上端块；2、销孔；3、横板；4、下端块；5、轴孔一；6、轴孔二。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1，本实用新型提供以下技术方案：一种线圈调节连接器，包括横板3，横板3的上端一侧设置有上端块1，横板3的下端另一侧设置有下端块4，上端块1的中间设置有横向贯穿的销孔2，下端块4的中间设置有纵向贯穿的轴孔一5，横板3的上端靠近上端块1的一侧设置有轴孔二6。

具体的，上端块1、下端块4和横板3为一体式成型结构，

通过采用上述技术方案，保证结构的稳定性。