[实用新型]半导体器件加工用的下料机构有效

专利信息
申请号: 202123381740.9 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN216597535U 公开(公告)日: 2022-05-24
发明(设计)人: 黄日成 申请(专利权)人: 佛山市佳丽美电子科技有限公司
主分类号: H01L21/677 分类号: H01L21/677
代理公司: 佛山高业知识产权代理事务所(普通合伙) 44562 代理人: 陈安平
地址: 528000 广东省佛山市南海区丹灶*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体器件 工用 机构
【说明书】:

实用新型公开了一种半导体器件加工用的下料机构,该下料机构包括底座和底板,所述底座的顶端上设有下料导轨,所述下料导轨的一侧外设有第一推料装置,所述底板的表面上设有下料导轨末端位置相对的与下料架,所述下料架的一侧上设有下料仓,所述下料仓内堆叠有若干个用于对半导体基板进行承载的承载盒,所述下料架的另一侧内设有托板装置,所述托板装置托板装置下方的底板上设有第二推料装置,该下料机构能自动实现半导体基板在完成加工后的运输以及下料操作,无需人工进行半导体基板的下料操作,提高半导体器件加工效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体器件加工装置领域,尤其是一种半导体器件加工用的下料机构。

背景技术

半导体器件是导电性介于良导电体与绝缘体之间,利用半导体材料特殊电特性来完成特定功能的电子器件,可用来产生、控制、接收、变换、放大信 号和进行能量转换;现有的半导体加工装置在对半导体基板进行加工后,需要人工地对半导体基板进行下料,由于刚加工完成后的半导体基板温度较高,若直接人工进行拿取会存在被烫伤的可能,而且人工进行下料操作的效率较低,不利于半导体器件的加工生产;因此,有必要地设计一种半导体器件加工用的下料机构。

实用新型内容

本实用新型针对上述技术不足,提供一种能自动实现半导体基板在完成加工后的运输以及下料操作,无需人工进行半导体基板的下料操作,提高半导体器件加工效率的下料机构。

为达到上述目的,本实用新型通过以下技术方案实现:

半导体器件加工用的下料机构,该下料机构包括底座和底板,所述底座的顶端上设有下料导轨,所述下料导轨的一侧外设有第一推料装置,所述底板的表面上设有下料导轨末端位置相对的与下料架,所述下料架的一侧上设有下料仓,所述下料仓内堆叠有若干个用于对半导体基板进行承载的承载盒,所述下料架的另一侧内设有托板装置,所述托板装置托板装置下方的底板上设有第二推料装置。

进一步,所述第一推料装置包括驱动杆、连接臂和推料杆,所述下料导轨的一侧外设有驱动杆固定座,所诉驱动杆配合在驱动杆固定座内,所述驱动杆上设有若干个连接臂,所述连接臂的末端上设有推料杆。

进一步,所述下料导轨的顶面上设有若干个第一滑槽,靠近所述下料导轨侧的推料杆从上至下贯穿到第一滑槽下方的下料导轨内,位于所述第一滑槽内的推料杆上配合有盖板,靠近所述下料架侧的推料杆底端部分呈钩状。

进一步,靠近所述下料导轨末端处的下料架上设有对接槽,所述对接槽一侧外的下料架壁面上设有设有固定架,所述固定架上设有第一传感器。

进一步,所述下料导轨末端处的底座上设有散热座,所述散热座内设有若干个散热翅片。

进一步,位于所述下料仓一侧外的下料架上设有气缸,所述气缸的驱动端贯穿到下料架的一侧壁面并延伸至下料仓内,位于所述下料仓内的气缸驱动端上设有压板。

进一步,所述托板装置包括电机、第一丝杠和托板,所述电机设置在下料仓一侧外的下料架上,所述第一丝杠设置在电机的驱动端上,所述第一丝杠位于电机下方的下料架内,所述第一丝杠一侧外下料架上设有第二滑槽,所述托板的一端贯穿第二滑槽与第一丝杠的丝杠螺母连接,所述托板位于下料仓的下方处。

进一步,所述第二推料装置包括第二丝杠、滑座和推料柱,所述下料仓下方的底板上设有第三滑槽,所述滑座位于第三滑槽内,所述第三滑槽两侧外的底板上设有第四滑槽,所述滑座的两侧设有滑块,所述滑座通过滑块与第四滑槽之间的配合连接在底板上,所述推料柱设置在滑座的两侧上,所述第二丝杠位于底板下方,所述滑座的底端处设有连接在第二丝杠的丝杠螺母上。

进一步,所述底板的一侧末端上设有第二传感器。

本实用新型的有益效果为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市佳丽美电子科技有限公司,未经佛山市佳丽美电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202123381740.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top