[实用新型]均质设备有效

专利信息
申请号: 202123289824.X 申请日: 2021-12-24
公开(公告)号: CN216726704U 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 醉好科技运营(深圳)集团有限公司
主分类号: B01F25/20 分类号: B01F25/20;B01F33/71;B01F35/90
代理公司: 深圳市深弘广联知识产权代理事务所(普通合伙) 44449 代理人: 黄小琴
地址: 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 设备
【权利要求书】:

1.一种均质设备,其特征在于,包括均质头和支撑架,所述支撑架上设置有水槽,至少一个均质头安装固定在所述水槽内,所述均质头包括壳体、调节杆和撞击腔,所述壳体为中空结构,壳体内部设置有所述调节杆和撞击腔,所述调节杆设置在所述撞击腔的一侧,所述撞击腔的另一侧设置有输入管,所述撞击腔上还连接有输出管。

2.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述水槽与支撑架固定相连,所述水槽内设置有加热管,所述加热管缠绕设置在所述均质头的外侧,所述加热管的两端与设置在水槽表面的阀门相连接。

3.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述支撑架的上端位置设有固定条,所述固定条上设有与外部设备相连接的加压阀。

4.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述调节杆的一端深入至所述壳体内,另一端向外延伸,所述调节杆上设置有螺纹,所述壳体上固定安装有螺母,所述螺母固定在所述壳体的一侧,所述螺母上设置有与调节杆相适配的反向螺纹。

5.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述壳体内还设置有限位套,所述限位套位于调节杆与壳体之间,限位套的外侧设有密封圈。

6.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述撞击腔朝向调节杆的一侧设有第一撞击部,所述第一撞击部包括底座和面座,所述底座和面座固定相连,所述底座设置在面座与调节杆之间,所述底座采用钨钢制成,所述面座采用钻石制成。

7.根据权利要求1所述的均质设备,其特征在于,所述撞击腔朝向输入管的一侧设有挤压头,所述挤压头与第一撞击部之间采用连接环相连,所述连接环上开设有与输出管相连接的通孔。

8.根据权利要求7所述的均质设备,其特征在于,所述挤压头中部的微孔的孔径为0.3-0.7mm。

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