[实用新型]一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置

权利要求书

1.一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于，包括用于收纳待烧胚加工磁瓦的烧胚壳体（1），所述烧胚壳体（1）内设置有使磁瓦胚体受热均匀的翻转组件（2）和为翻转组件（2）提供动力源的驱动组件（8）；

所述翻转组件（2）包括安装于烧胚壳体（1）内的固定框架（202），所述固定框架（202）内设置有安装框（205），所述安装框（205）内设置有对待烧胚磁瓦固定的限位组件（7）；

所述限位组件（7）包括安装于安装框（205）内的多个固定板（703），且每两个所述固定板（703）之间设置有放置磁瓦的预留空间，所述固定板（703）顶部设置有螺杆（702），且螺杆（702）贯穿固定板（703）延伸至预留空间。

2.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述螺杆（702）靠近预留空间一端设置有限位块（704），所述螺杆（702）远离限位块（704）一端连接有旋钮（701）。

3.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述固定框架（202）外侧与驱动组件（8）相连接，所述驱动组件（8）包括贯穿固定框架（202）与安装框（205）相连接的第一转轴（801），所述第一转轴（801）远离固定框架（202）一端连接有电机（802）。

4.根据权利要求3所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述第一转轴（801）外侧设置有皮带（803），所述皮带（803）远离第一转轴（801）一端内设置有第二转轴（804）。

5.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述固定框架（202）远离电机（802）一侧设置有与第一转轴（801）和第二转轴（804）相适配的轴承座（203），且固定框架（202）靠近轴承座（203）一侧设置有第一把手（204）。

6.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述固定框架外侧设置有凸块（201），且凸块（201）为两个，并呈对称设置，所述烧胚壳体（1）内侧开设有与凸块（201）相适配的滑动槽。

7.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述烧胚壳体（1）内底部设置有加热棒（6），且加热棒（6）设置为若干。

8.根据权利要求1所述的一种受热均匀的磁瓦加工用烧胚装置，其特征在于：所述烧胚壳体（1）外侧设置有合页（3），所述合页（3）另一端连接有箱门（4），所述箱门（4）表面安装有第二把手（5）。