[实用新型]一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构

权利要求书

1.一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，包括料罐(1)，其特征在于：所述料罐(1)的底部固定连通有耐腐料斗(2)，所述耐腐料斗(2)的底部固定连通有透明下料筒(3)，所述透明下料筒(3)的底部安装有防腐电磁阀(4)，所述耐腐料斗(2)的背面的底部固定连接有支架(6)，所述支架(6)的底部固定连接有固定板(7)，所述固定板(7)的两侧均开设有卡槽(8)，所述卡槽(8)的中部卡接有吸附网框(9)，所述吸附网框(9)的两侧均固定连接有塑胶卡垫(12)，所述耐腐料斗(2)的内侧固定连接有防腐内垫(14)，所述耐腐料斗(2)的外侧固定连接有防腐胶膜(15)。

2.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，其特征在于：所述防腐电磁阀(4)的底部连通有出料端管(5)，所述防腐电磁阀(4)通过外接开关与外接电源电性连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，其特征在于：所述吸附网框(9)背面的中部铰接有网盖(11)，所述吸附网框(9)的内部填充有活性炭。

4.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，其特征在于：透明下料筒(3)包括塑胶筒体(16)、防腐树脂内膜(17)、防腐树脂外膜(18)和保护膜(19)，且所述塑胶筒体(16)的内侧固定连接有防腐树脂内膜(17)，所述塑胶筒体(16)的外侧固定连接有防腐树脂外膜(18)，所述防腐树脂外膜(18)的外侧固定连接有保护膜(19)。

5.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，其特征在于：所述吸附网框(9)背面的顶部和吸附网框(9)背面的底部均固定连接有拉把(13)。

6.根据权利要求1所述的一种用于半导体蚀刻机的原料罐自动出料机构，其特征在于：所述透明下料筒(3)一侧的表面设有刻度(10)。