[实用新型]一种污染地下水异位淋洗修复装置有效
| 申请号: | 202122991722.6 | 申请日: | 2021-12-01 |
| 公开(公告)号: | CN216687706U | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
| 发明(设计)人: | 丛明旭;张玉波;杜守营;王玉超 | 申请(专利权)人: | 沈阳市鹏德环境科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/04 | 分类号: | C02F9/04;C02F103/06 |
| 代理公司: | 北京哌智科创知识产权代理事务所(普通合伙) 11745 | 代理人: | 齐丽娜 |
| 地址: | 110000 辽宁省沈阳市中国(辽宁)自由贸*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 污染 地下水 淋洗 修复 装置 | ||
本实用新型公开了一种污染地下水异位淋洗修复装置,涉及地下水修复技术领域,包括装置主体,所述装置主体的顶端固定有导流管,所述导流管的内部内部设置有水泵,所述导流管的输入端连接于地下水的一端,所述导流管的输出端安装有第一喷头,所述装置主体的内部设置有第一过滤空腔、第二空腔、均料空腔、修复空腔。本实用新型分隔组件与喷洒组件,便于工作人员通过装置主体均匀的将药剂与所需修复的地下水充分融合,从而达到修复地下水的效果,升降杆移动带动活塞板移动,活塞板移动带动修复药液通过排药管与雾化喷头进入装置主体内部,使得修复药液与初步过滤后的地下水充分融合,便于工作人员后期快速便捷的对地下水进行处理。
技术领域
本实用新型涉及地下水修复技术领域,具体为一种污染地下水异位淋洗修复装置。
背景技术
地下水作为地球上重要的水体,与人类社会有着密切的关系。地下水的贮存有如在地下形成一个巨大的水库,以其稳定的供水条件、良好的水质,而成为农业灌溉、工矿企业以及城市生活用水的重要水源,成为人类社会必不可少的重要水资源,尤其是在地表缺水的干旱、半干旱地区,地下水常常成为当地的主要供水水源。据不完全统计,70年代以色列国75%以上的用水依靠地下水供给,德国的许多城市供水,亦主要依靠地下水;法国的地下水开采量,要占到全国总用水量1/3左右;像美国,日本等地表水资源比较丰富的国家,地下水亦要占到全国总用水量的20%左右。中国地下水的开采利用量约占全国总用水量的10—15%,其中北方各省区由于地表水资源不足,地下水开采利用量大。根据统计,1979年黄河流域平原区的浅层地下水利用率达48.6%,海、滦河流域更高达87.4%;1988年全国270多万眼机井的实际抽水量为529.2亿立方米,机井的开采能力则超过800亿立方米。
由于地下水由于位于地层深处,在迁移扩散时,污染物在地下水中会滞留很长时间,附近地面上的环境造成了一定影响。在现有技术中,污染地下水通常只能实现单项修复,通过多种方式实现对污染地下水修复的较少,目前在污染地下水的修复上使用较多的是原位修复方式,需要加入过量的修复药剂,才能将地下水完全修复,容易造成新污染,修复效率不高。而异位化学淋洗技术既有灵活方便、利于技术推广、适用于各种类型污染物治理等特点。
实用新型内容
本实用新型的目的在于:为了解决上述问题,提供一种污染地下水异位淋洗修复装置。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种污染地下水异位淋洗修复装置,包括装置主体,所述装置主体的顶端固定有导流管,所述导流管的内部内部设置有水泵,所述导流管的输入端连接于地下水的一端,所述导流管的输出端安装有第一喷头,所述装置主体的内部设置有第一过滤空腔、第二空腔、均料空腔、修复空腔,所述第一过滤空腔与第二过滤空腔的底端均固定有过滤箱,所述第一过滤空腔底端过滤箱的内部安装有第一过滤介质,所述第二过滤空腔底端过滤箱的内部设置有第二过滤介质,所述均料空腔的内部安装有分隔组件,所述分隔组件的底端固定有喷洒组件,所述均料空腔与修复空腔通过过滤板隔开。
优选地,所述分隔组件包括有隔板、第一转动杆、第一齿轮盘、第二齿轮盘,所述隔板的数量为四组,四组所述隔板等距环形分布于第一转动杆的外壁,所述第一转动杆远离装置主体的一端固定有第一齿轮盘,所述第一齿轮盘的外壁通过卡齿连接有第二齿轮盘,所述第二齿轮盘远离第一转动杆的一端固定有第二转动杆。
优选地,所述喷洒组件包括有摆动杆、升降杆、活塞板、储液箱、进药管、排药管、雾化喷头,所述摆动杆的内部设置有与第二转动杆相匹配的通孔,所述摆动杆的底端通过转轴连接有升降杆,所述升降杆的底端固定有活塞板,所述活塞板的外壁安装有储液箱,所述储液箱的输入端连接有进药管,所述储液箱的输出端设置有排药管,所述排药管的输出端安装有雾化喷头。
优选地,所述进药管的内部设置有第一单向阀,所述排药管的内部设置有第二单向阀。
优选地,所述装置主体的内部设置有与第一过滤介质相匹配的第一滑槽,所述装置主体的内部位于第一滑槽的下方设置有与第二过滤介质相匹配的第二滑槽。
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