[实用新型]一种投射模组、成像装置以及光学设备有效
申请号: | 202122959732.1 | 申请日: | 2021-11-29 |
公开(公告)号: | CN216646799U | 公开(公告)日: | 2022-05-31 |
发明(设计)人: | 郑德金;戴刚;段彦旭;武万多 | 申请(专利权)人: | 奥比中光科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01S7/481 | 分类号: | G01S7/481;G02B27/42 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 李木燕 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 投射 模组 成像 装置 以及 光学 设备 | ||
本申请提供了一种投射模组、成像装置以及光学设备,其中,上述投射模组包括光源和光学组件,其中,所述光源的光轴与所述投射模组的光场中轴不重合;所述光源用于发射激光;所述光学组件用于准直所述光源发射的激光以形成散斑图案,所述散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布。本申请提供的投射模组能够使散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布,进而在减少成像装置的无效光场的同时,减少成像装置的组装难度和控制难度。
技术领域
本申请属于光学领域,尤其涉及一种投射模组、成像装置以及光学设备。
背景技术
基于单目结构光的成像装置,其投射模组(简称TX模组)常会造成无效光场的出现,而结构光的精度和成像装置中TX模组和接收模组(简称RX模组)之间的基线相关,基线越长则精度越高,但基线的增长也会增加无效光场。同时,由于无效光场位于TX模组的输出光场的边缘,边缘处所需的输出功率往往大于光场中轴附近所需的输出功率,因此,无效光场的增加也会造成功耗的浪费。
为了解决上述问题,现有的方式一般通过倾斜组装TX模组,使TX模组往RX模组的方向倾斜,进而减少无效光场。但是,倾斜组装TX模组将给大模组设备的组装带来挑战,为了保证精度,需要精密的组装设备,同时也对大模组设备的控制带来不利因素。
实用新型内容
本申请实施例的目的在于提供一种投射模组、成像装置以及光学设备,在减少成像装置的无效光场的同时,减少成像装置的组装难度和控制难度。
为实现上述目的,本申请实施例第一方面提供一种投射模组,包括光源和光学组件,所述光源的光轴与所述投射模组的光场中轴不重合;所述光源用于发射激光;所述光学组件用于准直所述光源发射的激光以形成散斑图案,所述散斑图案沿所述投射模组的光场中轴呈非对称分布。
本申请实施例第二方面提供一种成像装置,所述成像装置包括本申请实施例第一方面所述的投射模组,以及接收模组;所述接收模组用于采集所述投射模组投射在目标对象上的散斑图案。
本申请实施例第三方面提供一种光学设备,包括运算装置以及本申请实施例第二方面所述的成像装置,所述运算装置用于根据所述成像装置的接收模组采集到的散斑图案,计算得到目标对象的深度信息。
本申请提供的投射模组的有益效果在于:本申请的实施方式中,TX模组中光源的光轴与TX模组的光场中轴不重合,使得TX模组中光学组件准直光源发射的激光后形成的散斑图案沿光场中轴呈非对称分布,进而在TX模组不需要倾斜设置的情况下,使输出光场中远离RX模组一侧的边缘向RX模组视场中靠近TX模组一侧的边缘的平行线靠近,甚至达到与RX模组视场中靠近TX模组一侧的边缘平行的效果,从而减少成像装置的无效光场。随着无效光场的减少,TX模组的发光功率也相应减少,进而降低了成像装置工作时所需的功耗。并且,由于TX模组不需要倾斜设置,可以减少成像装置的组装难度和控制难度。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的成像装置的工作原理的第一示意图;
图2是本申请实施例提供的成像装置的工作原理的第二示意图;
图3是本申请实施例提供的成像装置的工作原理的第三示意图;
图4是本申请实施例提供的TX模组的第一结构示意图;
图5是本申请实施例提供的TX模组的第二结构示意图;
图6是本申请实施例提供的TX模组的第三结构示意图;
图7是本申请实施例提供的TX模组的第四结构示意图;
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