[实用新型]一种光学器件位置调节装置有效
申请号: | 202122877041.7 | 申请日: | 2021-11-23 |
公开(公告)号: | CN216696896U | 公开(公告)日: | 2022-06-07 |
发明(设计)人: | 熊志勇;曾飞;曾成;张晶 | 申请(专利权)人: | 长园视觉科技(珠海)有限公司 |
主分类号: | G02B27/62 | 分类号: | G02B27/62;G02B7/00 |
代理公司: | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人: | 王贤义 |
地址: | 519000 广东省珠海市高新区唐*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光学 器件 位置 调节 装置 | ||
本实用新型旨在提供一种结构简单,调节精度高,实现在线微调,从而提高调节效率的光学器件位置调节装置。本实用新型包括镜筒、第一弹簧、挡圈、载具以及XY轴微调模组,所述载具设置在所述XY轴微调模组上,所述XY轴调节模组设置在所述镜筒的内部,所述镜筒的内壁上设置有限位凸台,所述第一弹簧设置在所述限位凸台和所述XY轴微调模组之间,所述挡圈与所述镜筒螺纹配合,所述挡圈顶靠在所述XY轴微调模组上。本实用新型应用于光学检测设备或者光学测量仪器技术领域。
技术领域
本实用新型应用于光学检测设备或者光学测量仪器技术领域,特别涉及一种光学器件位置调节装置。
背景技术
在精密制造领域中,光学检测设备和光学测量仪器起着重要作用,有效地推进了精密制造生产工艺水平的提升,特别是随着3C电子及半导体行业的发展,高精密的光学检测设备有效地推动着半导体工艺水平的更新换代。光学光路调试对光学仪器的性能起着决定性的作用,光机装调的优劣直接影响光路的性能,特别在高精密的检测仪器或者设备中,光机装调的优劣决定了仪器分辨率和精度的好坏。
在高精密光学检测仪器中,大部分的光路都需要光学器件有良好的定位精度,使光学系统能够按照设计要求进行光路检测。如光纤耦合对准领域及共聚焦针孔或者狭缝对准中,光学器件的定位精度需要达到微米级别,此时的定位精度很难通过机械零件的加工精度进行保证,故需要进行光机装调,将光学器件通过光机装调定位在指定的设计位置。
对于高精密光机装调中精密光学元器件的对准和位姿调整(特别是光纤、针孔、狭缝的对准),这类光学元件的定位精度往往需要达到微米级别,此时无法靠加工及组装精度来保证,故需要对此元件进行手动调节,以达到系统的使用要求。基于上述问题,行业内一般使用三维精密位移工作台或者六维精密位移工作台来进行外部辅助调节,达到调节目的后需要进行点胶固定或者螺丝锁紧,而这种调节只能在线下进行,如果光学系统由于应力或者其他原因导致效果变差时,无法及时进行修正。
当采用六维台进行光纤对准耦合时,首先需要将光纤与六维台通过治具进行连接,其次在空间受限的光学系统中,六维台可能无法摆放,而且在六维台将光纤装调到合适位置后,需要进行点胶固定,点胶过程中可能会出现位置偏移的问题,胶水固化后也可能由于应力等原因造成位置偏移。固化后如果出现系统应力温度变化等原因造成光学系统性能下降,无法通过调节光纤的位置重新对光纤进行耦合,稳定性差。现有技术对针孔或者狭缝的调整也具有较大的装调难度,通常使用机械夹具固定在进行手动微调,由于针孔或者狭缝调节精度需达到微米级别才能满足光学系统装调的要求,故这种方式具有较低的调节效率和调节精度。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供了一种结构简单,调节精度高,实现在线微调,从而提高调节效率的光学器件位置调节装置,则能够很好地解决上述问题。
本实用新型所采用的技术方案是:本实用新型包括镜筒、第一弹簧、挡圈、载具以及XY轴微调模组,所述载具设置在所述XY轴微调模组上,所述XY轴调节模组设置在所述镜筒的内部,所述镜筒的内壁上设置有限位凸台,所述第一弹簧设置在所述限位凸台和所述XY轴微调模组之间,所述挡圈与所述镜筒螺纹配合,所述挡圈顶靠在所述XY轴微调模组上。
由上述方案可见,将光学器件定位设置在所述载具上,在光学器件的使用过程中,当需要对其位置进行调节时,则顺时针拧动所述挡圈,由于所述挡圈与所述镜筒螺纹配合,因此在所述挡圈的顶压下所述XY轴微调模组可以沿Z轴方向进行移动,所述镜筒的内壁上设置有限位凸台,所述第一弹簧设置在所述限位凸台和所述XY轴微调模组之间,当逆时针拧动所述挡圈时,所述XY轴微调模组可以在所述第一弹簧的反作用力下进行回调,以此来调节光学器件在Z轴方向的位置。同时,在所述XY轴微调模组的作用下,还可以调节光学器件在X轴和Y轴方向的位置。因此,本实用新型不仅结构简单,而且操作简便,在完成调节后无需进行点胶固定或者螺丝锁定,避免了出现位置偏移的问题,大大地提高了调节精度,可靠性高,实现了光学器件在实际使用环境中的在线微调,从而大大地提高了调节效率,保证了光学系统效率的最大化。
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