[实用新型]一种制备高纯石墨的预处理设备

权利要求书

1.一种制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：包括具有腔体的壳体，壳体内设置有通道结构，通道结构包括石墨通道，隔板将腔体分割成上部的第一预处理室和下部的第二预处理室，壳体上设置有与第一预处理室连通的石墨进口，壳体上于石墨进口的下方设置有与第一预处理室连通的第一进气管，第一进气管用于供入含有臭氧气体和/或氧气和/或氟气的气体，第一进气管壳体的上部设置有第一出气口，该设备还包括用于加热第一预处理室的第一加热装置；壳体上设置有与第二预处理室连通的第二进气管，第二进气管用于供入含有水蒸气的气体，壳体的下部设置有石墨出口，壳体上设置有与第二预处理室连通的第二出气口，该设备还包括用于加热第二预处理室的第二加热装置。

2.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述第一进气管伸入第一预处理室内部，第一进气管上设置有多个气孔。

3.根据权利要求2所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述第一进气管的数量为两个以上并沿周向间隔布置。

4.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述第一加热装置包括设置于第一预处理室内壁上的第一加热丝。

5.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述通道结构包括两对以上的板体，各板体均包括下部的竖向板和下部的倾斜板，各对板体的两个倾斜板的上端相背倾斜延伸，各对板体间隔设置形成上述石墨通道。

6.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述通道结构包括平板，平板上设置有多个形成石墨通道的通孔。

7.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述通道结构包括多个漏斗形筒体，各漏斗形筒体均包括圆锥形料斗和圆柱形筒体。

8.根据权利要求1所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述壳体的上端设置有开口，开口中设置有进料管，进料管的进口形成所述石墨进口，进料管与开口的内壁之间间隔设置形成所述第一出气口。

9.根据权利要求1-8中任意一项所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述第二预处理室内部设置有气体分布板，气体分布板将第二预处理室隔成处理室和气室，第二进气管与气室连通，气体分布板的位置最低处与石墨出口连通。

10.根据权利要求9所述的制备高纯石墨的预处理设备，其特征在于：所述气体分布板包括上部的竖向筒体和下部的锥形筒体，第二进气管包括与竖向筒体对应的上部进气管和与锥形筒体对应的下部进气管。