[实用新型]一种热转印硅胶烫画有效
| 申请号： | 202122657638.0 | 申请日： | 2021-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN216033471U | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 蔡德成 | 申请（专利权）人： | 广州鸿彩烫画制品有限公司 |
| 主分类号： | B44C5/04 | 分类号： | B44C5/04;B32B33/00;B32B27/36;B32B27/40;B32B15/00 |
| 代理公司： | 成都言成诺知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51314 | 代理人： | 张川 |
| 地址： | 510000 广东省广州市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 热转印 硅胶 | ||
1.一种热转印硅胶烫画，其特征在于：包括耐热基层(1)，所述耐热基层(1)的上表面设置有第一离型层(2)，所述第一离型层(2)的上表面设置有光扩散层(3)，所述光扩散层(3)的上表面设置有第二离型层(4)，所述第二离型层(4)的上表面设置有第一印刷层(5)，所述第一印刷层(5)的上表面设置有透明胶水层(6)，所述透明胶水层(6)的上表面设置有第二印刷层(7)，所述第二印刷层(7)的上表面设置有金属层(8)，所述金属层(8)的上表面设置有热熔胶层(9)。
2.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画，其特征在于：所述耐热基层(1)为一种聚对苯二甲酸乙二酯膜，所述耐热基层(1)的另一侧设置有背涂层。
3.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画，其特征在于：所述第一离型层(2)以及第二离型层(4)为一种氟离型层，所述第一离型层(2)的表面以及第二离型层(4)的表面分别于光扩散层(3)的表面进行紧密贴合。
4.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画，其特征在于：所述光扩散层(3)为一种有机硅光扩散剂，所述光扩散层的外表面设置有倒金字塔凹槽。
5.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画，其特征在于：所述透明胶水层(6)为一种水性透明聚氨酯涂层，所述第一印刷层(5)的印刷图案与第二印刷层(7)的印刷图案相吻合。
6.根据权利要求1所述的一种热转印硅胶烫画，其特征在于：所述金属层(8)为一种雾面金属层。
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