[实用新型]一种金属硅块分层清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种金属硅块分层清洗装置，包括罐体，所述罐体的上侧壁贯穿设有进料管，所述罐体的下侧壁贯穿设有出料管，所述罐体的内部设有转动轴，所述转动轴与所述罐体同轴设置，所述转动轴的外周面设有清洗机构，所述清洗机构的数量为多个，且所述清洗机构分层设置，本实用新型通过进料管以及出料管将硅块送入以及送出罐体的内部，通过设置转动轴，转动轴的内部设置腔体，通过向转动轴内部注入清洗水，通过在转动轴上设置横杆，使得清洗水进入横杆的内部，在驱动机构的作用下，带动转动轴转动，使得横杆分层对硅块进行搅拌，通过在横杆上设置喷水孔，清洗水由喷水孔喷出，对硅块进行分层清洗，从而可充分的对硅块进行清洗。

技术领域

本实用新型涉及金属硅制造技术领域，具体领域为一种金属硅块分层清洗装置。

背景技术

“金属硅”(我国也称工业硅)是上世纪六十年代中期出现的一个商品名称。它的出现与半导体行业的兴起有关。国际通用作法是把商品硅分成金属硅和半导体硅。金属硅是由石英和焦炭在电热炉内冶炼成的产品，主成分硅元素的含量在98％左右(含Si量99.99％的也包含在金属硅内)，其余杂质为铁、铝、钙等。半导体硅用于制作半导体器件的高纯度金属硅。是以多晶、单晶形态出售，前者价廉，后者价昂。因其用途不同而划分为多种规格。据统计，1985年全世界共消耗金属硅约50万吨，其中用于铝合金的金属硅约占 60％，用于有机硅的不足30％，用于半导体的约占3％，其余用于钢铁冶炼及精密陶瓷等。

金属硅在制造过程中，需要对金属硅块进行清理，清洗过程中，由于硅块处于堆积状态，内部难以清理到位，为此，提出一种金属硅块分层清洗装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种金属硅块分层清洗装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种金属硅块分层清洗装置，包括罐体，所述罐体的上侧壁贯穿设有进料管，所述罐体的下侧壁贯穿设有出料管，所述罐体的内部设有转动轴，所述转动轴与所述罐体同轴设置，所述转动轴的外周面设有清洗机构，所述清洗机构的数量为多个，且所述清洗机构分层设置，所述清洗机构包括多个横杆，所述横杆呈环形均匀分布在所述转动轴的外周面，所述主动轴的内部同轴设有腔体，所述横杆分别贯穿所述转动轴的侧壁，且所述横杆与所述腔体连通，所述横杆的侧壁贯穿设有喷水孔，所述罐体上设有驱动所述转动轴转动的驱动机构。

优选的，所述横杆与所述转动轴之间转动连接。

优选的，所述罐体的内周面对应所述清洗机构处设有环形槽，所述环形槽的内表面转动设有环形滑块，所述横杆远离所述转动轴的一端贯穿所述环形滑块的侧壁固定连接有齿轮，所述环形槽的内表面设有环形齿条，所述齿轮与所述环形齿条啮合。

优选的，所述驱动机构包括固定连接在所述罐体外周面的驱动电机，所述环形滑块包括环形滑块主体，所述环形滑块主体的外周面上端固定连接有环形板，所述环形板的下表面设有齿牙，所述驱动电机分别与所述环形槽对应，所述驱动电机的输出轴贯穿所述罐体的侧壁固定连接有传动齿轮，所述传动齿轮与对应的所述齿牙啮合。

优选的，所述腔体的内部固定连接有固定杆，所述固定杆与所述腔体同轴设置，所述固定杆的外周面固定连接有挡板，所述挡板分别位于所述横杆的内部，且所述挡板与所述横杆的内部上侧壁保持接触。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：一种金属硅块分层清洗装置，通过设置罐体，在罐体上下侧壁分别设置进料管以及出料管，通过进料管以及出料管将硅块送入以及送出罐体的内部，通过设置转动轴，转动轴的内部设置腔体，通过向转动轴内部注入清洗水，通过在转动轴上设置横杆，使得清洗水进入横杆的内部，在驱动机构的作用下，带动转动轴转动，使得横杆分层对硅块进行搅拌，通过在横杆上设置喷水孔，清洗水由喷水孔喷出，对硅块进行分层清洗，从而可充分的对硅块进行清洗。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；