[实用新型]一种可自清洗的基站及清洁系统

权利要求书

1.一种可自清洗的基站，包括水槽，以及用于清洗清洁机器人的拖擦件的清洗结构，所述清洗结构设置于所述水槽内或位于所述水槽上方，所述基站还包括用于向清洁机器人充电的充电组件，其特征在于，所述基站还包括：

喷水结构，用于向所述水槽底壁喷洒自边缘向中心区域方向的冲刷水流；

排水结构，用于将冲刷所述水槽后的水从所述水槽中排出。

2.根据权利要求1所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述喷水结构包括多个喷水口，所述多个喷水口沿所述水槽的周向分布。

3.根据权利要求1所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述喷水结构包括沿所述水槽周向设置的喷水管，所述喷水管面向水槽中心的一侧间隔设置有喷水口。

4.根据权利要求1-3任一项所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述排水结构包括依次连通的污水箱、抽水泵和污水管，所述污水管的吸水口设置于所述水槽的中心区域处，所述抽水泵通过所述污水管将冲刷水槽后的水从水槽中排出至所述污水箱。

5.根据权利要求4所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述水槽底壁的高度自边缘至中心区域方向逐渐降低。

6.根据权利要求1-3任一项所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述清洗结构相对于所述水槽转动设置，所述清洗结构包括清洗筋，所述清洗筋的顶端用于刮擦所述拖擦件上的脏污；所述清洗结构的底部设有与所述水槽底壁接触的柔性件，用于在所述清洗结构相对所述水槽转动时清洗所述水槽。

7.根据权利要求6所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述基站还设有驱动所述清洗结构转动的电机，以带动所述柔性件旋转清洗所述水槽和/或带动所述清洗筋旋转刮擦所述拖擦件。

8.根据权利要求6所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述清洗结构通过单向转动结构与所述水槽连接，以使所述清洁机器人驱动所述拖擦件沿第一方向旋转状态下所述清洗结构处于非转动状态以刮擦所述拖擦件，且使所述清洁机器人驱动所述拖擦件沿第二方向转动状态下带动所述清洗结构的柔性件旋转以清洗所述水槽。

9.根据权利要求6所述的可自清洗的基站，其特征在于，所述柔性件为柔性刮条或毛刷。

10.一种清洁系统，其特征在于，包括设有拖擦件的清洁机器人，以及如权利要求1-9任一项所述的可自清洗的基站。