[实用新型]一种陶瓷生胚用承烧台

说明书

本实用新型公开了一种陶瓷生胚用承烧台，包括承烧台主体，所述承烧台主体为矩形板体结构，所述承烧台主体底端的两侧均设有为长条形结构的支撑脚，所述承烧台主体顶端的四角均设有支板，所述承烧台主体的内部设有流动腔，所述流动腔的底部设有若干个进气孔，所述流动腔的内部设有为波浪形结构的均流板，所述均流板上均匀分布有若干个通孔，且所述承烧台主体的顶面设有若干个弧形凹口，并且所述承烧台主体的弧形凹口底部设有若干个出气孔，所述出气孔与流动腔的内部相连通。该陶瓷生胚用承烧台能够使烧结炉产生的高温气流均匀的流向承烧台上的各个区域，使每个陶瓷生胚都能充分的受热，保证成品的质量。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷生胚烧结装置技术领域，具体为一种陶瓷生胚用承烧台。

背景技术

陶瓷生胚在制作过程中需经过高温烧结致密，形成最接近理论密度的熟陶瓷。烧结的过程中随着温度升高，陶瓷坯体中具有比表面大，表面能较高的粉粒，力图向降低表面能的方向变化，不断进行物质迁移，晶界随之移动，气孔逐步排除，产生收缩，使坯体成为具有一定强度的致密的瓷体。

目前陶瓷生胚在烧结的过程通常需要摆放在烧结炉的承烧台上，而现有的陶瓷生胚用承烧台大多都会放置多个陶瓷生胚一起进行烧结，这使得烧结炉产生的高温气体不能均匀的流向承烧台上的各个区域，从而导致陶瓷生胚成品容易形成差异影响质量，且承烧台为了提高生产效率通常会相互叠加起来使用，但承烧台相互之间连接的稳定性较差，容易导致陶瓷生胚发生倾倒。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种陶瓷生胚用承烧台，以解决上述背景技术提出的目前陶瓷生胚用承烧台在放置多个陶瓷生胚一起进行烧结时，烧结炉产生的高温气体不能均匀的流向承烧台上的各个区域的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种陶瓷生胚用承烧台，包括承烧台主体，所述承烧台主体为矩形板体结构，所述承烧台主体底端的两侧均设有为长条形结构的支撑脚，所述承烧台主体顶端的四角均设有支板，所述承烧台主体的内部设有流动腔，所述流动腔的底部设有若干个进气孔，所述流动腔的内部设有为波浪形结构的均流板，所述均流板上均匀分布有若干个通孔，且所述承烧台主体的顶面设有若干个弧形凹口，并且所述承烧台主体的弧形凹口底部设有若干个出气孔，所述出气孔与流动腔的内部相连通。

优选的，所述支板的顶部设有梯形凸起，且所述支撑脚底部的前后两端均设有与梯形凸起结构相吻合的梯形凹槽。

优选的，所述梯形凸起与梯形凹槽的位置相对应，且所述梯形凸起底部的宽度大于顶部的宽度。

优选的，所述支撑脚上设有若干个开口，且所述开口在承烧台主体的两侧呈相互交错分布。

优选的，所述进气孔与承烧台主体底端的外部相连通，且所述进气孔为上窄下宽的变径结构。

优选的，所述支板的底部设有卡块，且所述承烧台主体顶端的四角设有与卡块结构相吻合的卡槽。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该陶瓷生胚用承烧台能够使烧结炉产生的高温气流均匀的流向承烧台上的各个区域，使每个陶瓷生胚都能充分的受热，保证成品的质量。该装置通过将烧结炉产生的高温气体引入到流动腔的内部接触均流板，均流板能够将高温气体均匀分散至承烧台顶端的各个区域与陶瓷生胚充分的进行接触，从而避免陶瓷生胚受热不均衡影响成品的质量，同时该装置的支撑脚能够通过将梯形凹槽分别嵌合在梯形凸起的外部，有效的提高承烧台相互叠加使用时相互连接的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型一种陶瓷生胚用承烧台结构示意图；

图2为本实用新型一种陶瓷生胚用承烧台的承烧台主体侧视结构示意图；

图3为本实用新型一种陶瓷生胚用承烧台的承烧台主体叠加状态结构示意图。