[实用新型]一种拉制单晶的加热器装置及单晶炉热场结构有效
| 申请号: | 202122380202.1 | 申请日: | 2021-09-29 |
| 公开(公告)号: | CN217351618U | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
| 发明(设计)人: | 李鹏飞;娄中士;周宏邦;袁长宏;田旭东;田宇翔;马飞;贾海洋;张强;王淼 | 申请(专利权)人: | 内蒙古中环领先半导体材料有限公司;中环领先半导体材料有限公司 |
| 主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/14 |
| 代理公司: | 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 栾志超 |
| 地址: | 010070 内蒙古自*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 制单 加热器 装置 单晶炉热场 结构 | ||
1.一种拉制单晶的加热器装置,其特征在于,包括:加热器主体,所述加热器主体上设置有至少一个凹槽部和至少一个凸起部,所述凹槽部设置在所述加热器本体靠近单晶棒的一侧,但并未贯穿所述加热器主体的顶部;所述凸起部设置在除所述凹槽部以外的位置,将更高的温度辐射至单晶棒中。
2.根据权利要求1所述的一种拉制单晶的加热器装置,其特征在于:所述凹槽部的深度小于所述凸起部的厚度。
3.根据权利要求2所述的一种拉制单晶的加热器装置,其特征在于:所述凸起部的厚度与所述加热器主体厚度一致。
4.根据权利要求1所述的一种拉制单晶的加热器装置,其特征在于:还包括底部加热器,设置在所述加热器主体的底部,使得硅溶液均匀受热。
5.一种单晶炉热场结构,其特征在于,包括:炉体、坩埚以及如权利要求1-4任一项所述的拉制单晶的加热器装置;所述坩埚设置在所述炉体内部,所述加热器装置设置在所述坩埚的周围,对所述坩埚进行加热。
6.根据权利要求5所述的一种单晶炉热场结构,其特征在于:还包括保温层和导流筒,所述导流筒布置在靠近所述坩埚的一侧,且所述导流筒的一侧固定在所述保温层上,所述导流筒隔绝部分热量;所述保温层布置在远离所述坩埚的一侧,对所述坩埚内部进行保温。
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