[实用新型]基站系统

权利要求书

1.基站系统，包括基站和清洁机，所述基站用于所述清洁机的停靠来进行维护处理，其特征在于：所述清洁机上设置有用于对地面进行清洁处理的拖擦组件；

所述基站包括站主体，所述站主体上设置有容置区；

所述基站还包括清洗组件，所述清洗组件设置为可拆卸地安装于所述容置区上；

所述清洗组件包括清洗件，所述清洗件上设置有清洗区和滤污区，且所述清洗区与所述滤污区设置为相连通的结构，当所述清洁机停靠在所述基站上时至少所述拖擦组件的一部分位于所述清洗区上。

2.根据权利要求1所述的基站系统，其特征在于：所述容置区位于所述清洗区和/或所述滤污区的下侧，所述滤污区上设置有多个滤污部来使得所述滤污区与所述容置区通过所述滤污部呈相连通的结构。

3.根据权利要求2所述的基站系统，其特征在于：所述站主体上设置有工作区，所述容置区设置为位于所述工作区上，所述工作区上设置有用于所述清洁机进入到所述工作区上来进行停靠维护的进口，设置所述进口上远离所述站主体的外侧方向为前侧方向，并设置至少所述滤污区的一部分位于所述清洗区的前侧方向，且设置至少所述滤污区的一部分位于所述清洗区的下侧方向。

4.根据权利要求3所述的基站系统，其特征在于：所述清洗组件还包括集污件，所述集污件设置为可拆卸地安装于所述清洗件上且所述集污件位于所述清洗件的下侧，并在所述集污件上设置有集污区，所述集污区设置为通过所述滤污部与所述滤污区呈相连通的结构。

5.根据权利要求3所述的基站系统，其特征在于：所述拖擦组件包括旋滚件，所述旋滚件设置为可接触地面旋转滚动运动的结构，所述清洗区上设置有挡刮部，所述挡刮部设置为朝向上侧方向凸起结构并与所述旋滚件的外表面呈相互接触的结构。

6.根据权利要求5所述的基站系统，其特征在于：所述挡刮部的一侧设置有向下凹陷的蓄液区，所述蓄液区位于所述清洗区上，至少所述蓄液区上用于盛放清洗液的内端面的一部分到所述站主体的底部的距离为H1，至少所述滤污区上用于接收清洗液的内端面的一部分到所述站主体的底部的距离为H2，且H1大于H2使得所述蓄液区内的清洗液可在重力下流动到所述滤污区内。

7.根据权利要求6所述的基站系统，其特征在于：至少所述蓄液区上用于盛放清洗液的内端面的一部分在前后方向上设置为从后侧方向朝向前侧方向呈相对地面由高至低逐渐倾斜的结构；

和/或，所述挡刮部上设置有数量为一个及以上的通道且所述通道设置为分别与所述蓄液区和所述滤污区相连通的结构。

8.根据权利要求7所述的基站系统，其特征在于：所述站主体上设置有进液口，所述进液口设置为呈朝向所述蓄液区方向的开口结构，且至少所述进液口上用于清洗液流过的内端面位于至少所述蓄液区上用于盛放清洗液的内端面的上侧来使得通过所述进液口流出的清洗液在重力下流动到所述蓄液区内。

9.根据权利要求8所述的基站系统，其特征在于：当所述挡刮部上设置有通道时所述通道设置为位于所述挡刮部上远离所述进液口的位置上，且所述通道至所述清洗件上远离所述进液口的侧端面之间的距离小于等于所述清洗件的左右两侧端面之间的距离的三分之一。

10.根据权利要求4所述的基站系统，其特征在于：所述站主体上设置有排液口，所述排液口设置为与所述容置区相连通的结构使得所述容置区内的清洗液可进入到所述排液口，和/或，所述排液口设置为与所述集污区相连通的结构来用于将所述集污区内的清洗液可进入到所述排液口。