[实用新型]一种新型的离子烤箱有效

专利信息
申请号: 202122309565.6 申请日: 2021-09-23
公开(公告)号: CN215914230U 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 许秀能 申请(专利权)人: 中山市格福美电器有限公司
主分类号: A47J37/06 分类号: A47J37/06
代理公司: 佛山市顺为知识产权代理事务所(普通合伙) 44532 代理人: 关健垣;罗景裕
地址: 528445 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 离子 烤箱
【权利要求书】:

1.一种新型的离子烤箱,其特征在于,包括具有烹饪腔体(1)的内胆(2)、设置在内胆(2)外的离子发生器(4)、设置在内胆(2)上并与烹饪腔体(1)连通的密封罩(5)及设置在密封罩(5)上的离子发射头(6);

所述离子发生器(4)通过线路(7)与离子发射头(6)电性连接。

2.根据权利要求1所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述烹饪腔体(1)顶部设有安装板(3);

所述离子发生器(4)和密封罩(5)均设置在安装板(3)上,安装板(3)上设有连通烹饪腔体(1)和密封罩(5)的离子输出口(8)。

3.根据权利要求2所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述安装板(3)上设有与密封罩(5)相对的下凸部(10),离子输出口(8)设置在下凸部(10)的底面上。

4.根据权利要求3所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述安装板(3)上设有冲压而成的下陷平面(12);

所述下凸部(10)设置在下陷平面(12)上,离子发生器(4)和密封罩(5)均设置在下陷平面(12)上。

5.根据权利要求4所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述安装板(3)上设有导风罩(9);

所述离子发生器(4)和密封罩(5)均位于导风罩(9)的侧部,下陷平面(12)位于导风罩(9)的外侧。

6.根据权利要求5所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述安装板(3)上设有与导风罩(9)相对的通风孔(11);

所述下陷平面(12)和下凸部(10)均位于通风孔(11)的外侧。

7.根据权利要求2所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述密封罩(5)位于离子发生器(4)的外侧;

所述离子发生器(4)设置在安装板(3)的上部,离子发射头(6)设置在密封罩(5)的顶部。

8.根据权利要求1所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述离子发生器(4)的数量为两组且按左右间隔排布;

所述密封罩(5)和离子发射头(6)的数量均为两组且与离子发生器(4)一一对应。

9.根据权利要求1所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述离子发生器(4)为负离子发生器和等离子发生器的其中一种或两种的组合。

10.根据权利要求1所述新型的离子烤箱,其特征在于,所述离子发生器(4)设置在内胆(2)的侧部或者上部或者后部或者底部;

所述密封罩(5)设置在内胆(2)的侧部或者上部或者后部或者底部。

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