[实用新型]一种保证均匀加液的抛光模及抛光装置

说明书

本实用新型公开了一种保证均匀加液的抛光模，包括圆盘本体，所述圆盘本体底部设置有抛光垫，所述圆盘本体表面中部设置有连接凸部，所述圆盘本体表面上还开设有V型环槽，所述V型环槽底部设置有多个第一过液通孔，所述第一过液通孔对应的抛光垫上设置有第二过液通孔，所述V型环槽用于承接抛光液并将抛光液通过第一过液通孔和第二过液通孔进行添加；还公开一种抛光装置。本实用新型抛光液很容易进入抛光中心，保证抛光品质。

技术领域

本实用新型涉及光学镜片加工技术领域，具体涉及一种保证均匀加液的抛光模及抛光装置。

背景技术

光学镜片经过研磨液细磨后，其表面尚有厚约2–3m的裂痕层，要消除此裂痕层的方法即为抛光。抛光与研磨的机制一样，所使用的工具材质与抛光液不同，抛光所使用的材料有绒布、抛光皮及沥青等。

抛光时，镜盘在下、抛光模在上进行抛光，抛光液是从抛光模侧向加入，随着镜盘和抛光模的转动和摆动使部分抛光液带到镜盘和抛光模的中部，从而实现抛光液在抛光过程中的添加动作，这样的添加方式内，抛光液很难进入镜盘的中心或中心部位抛光液少，造成镜盘中心抛光量相对小，出现中心局部高等不良，极大影响抛光品质。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是提供一种保证均匀加液的抛光模及抛光装置，抛光液很容易进入抛光中心，保证抛光品质。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种保证均匀加液的抛光模，包括圆盘本体，所述圆盘本体底部设置有抛光垫，所述圆盘本体表面中部设置有连接凸部，所述圆盘本体表面上还开设有V型环槽，所述V型环槽底部设置有多个第一过液通孔，所述第一过液通孔对应的抛光垫上设置有第二过液通孔，所述V型环槽用于承接抛光液并将抛光液通过第一过液通孔和第二过液通孔进行添加。

进一步地，所述V型环槽数量为2且分别为同心设置的内环槽和外环槽。

进一步地，V型环槽顶部均匀设置有多个加强件。

进一步地，所述内环槽的内环面上开设有多个朝向圆盘本体中间的斜向通孔，所述斜向通孔对应的抛光垫上设置有第三过液通孔。

进一步地，所述圆盘本体表面的外周上设置有环形挡圈。

进一步地，所述圆盘本体的材质为铝。

一种抛光装置，包括上述任意一项所述的抛光模。

进一步地，还包括能够自转的镜盘，所述镜盘用于粘贴固定镜片。

本实用新型的有益效果：

抛光模能够将抛光液存储在V型环槽内，抛光液通过第一过液通孔和第二过液通孔流到抛光模与镜盘之间，随着镜盘和抛光模的转动和摆动，抛光液从中心到边缘都能添加到新的抛光液，使整个镜盘能均匀的抛光，抛光质量得到稳定。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图；

图2是本实用新型的抛光模的底部结构示意图；

图3是图1的截面结构示意图；

图4是本实用新型另一实施例的结构示意图；

图5是本实用新型提高通入效果的结构示意图；

图6是本实用新型使用时的第一状态结构示意图；

图7是本实用新型使用时的第二状态结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步说明，以使本领域的技术人员可以更好地理解本实用新型并能予以实施，但所举实施例不作为对本实用新型的限定。