[实用新型]遮光片、成像镜头及电子装置有效

专利信息
申请号: 202122286571.4 申请日: 2021-09-22
公开(公告)号: CN216310301U 公开(公告)日: 2022-04-15
发明(设计)人: 杨舒雲;范丞纬;周明达 申请(专利权)人: 大立光电股份有限公司
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B7/02;G03B17/12;G03B30/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 遮光 成像 镜头 电子 装置
【说明书】:

一种遮光片、成像镜头及电子装置,遮光片包含一中心开孔与多个遮光结构。一中心轴通过中心开孔。遮光结构环绕设置于中心开孔的一内周面,遮光结构由中心开孔往靠近中心轴的方向渐缩延伸,且遮光结构用以定义一外接圆与一内接圆,其中遮光结构靠近中心轴的多个内接圆端部与内接圆相接,且遮光结构远离中心轴的多个外接圆端部与外接圆相接。内接圆与各遮光结构之间为一透光部,且外接圆与各遮光结构之间为一遮光部。借此,在严苛环境条件下可具有抵抗杂讯的能力,并可避免过度遮光以还原场景样貌。

技术领域

本揭示内容是关于一种遮光片与成像镜头,且特别是一种应用在可携式电子装置上的遮光片与成像镜头。

背景技术

近年来,可携式电子装置发展快速,例如智能电子装置、平板计算机等,已充斥在现代人的生活中,而装载在可携式电子装置上的成像镜头及其遮光片也随之蓬勃发展。但随着科技愈来愈进步,使用者对于遮光片的品质要求也愈来愈高。

具体而言,遮光片的多个遮光结构可降低成像镜头于强光源场景的杂讯干扰。当遮光结构的凸起高度增加时,可提升成像镜头在强光源场景抗杂讯的能力。然而,同时容易造成成像镜头过度遮光,导致成像品质下降。因此,发展一种可改善过度遮光并可在强光源场景具有抵抗杂讯能力的遮光片遂成为产业上重要且急欲解决的问题。

实用新型内容

本揭示内容提供一种遮光片、成像镜头及电子装置,通过遮光片的遮光结构可在严苛环境条件下还原场景样貌。

依据本揭示内容一实施方式提供一种遮光片,包含一中心开孔与多个遮光结构。一中心轴通过中心开孔。遮光结构环绕设置于中心开孔的一内周面,遮光结构由中心开孔往靠近中心轴的方向渐缩延伸,且遮光结构用以定义一外接圆与一内接圆,其中遮光结构靠近中心轴的多个内接圆端部与内接圆相接,且遮光结构远离中心轴的多个外接圆端部与外接圆相接。内接圆与各遮光结构之间为一透光部,且外接圆与各遮光结构之间为一遮光部。内接圆的半径为Ri,外接圆的半径为Ro,外接圆的面积减去内接圆的面积为AA,透光部的面积为A1,遮光部的面积为A2,其满足下列条件:34μm≤Ro-Ri≤157μm;AA=A1+A2;以及0.9≤A1/A2≤5.4。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中遮光片与遮光结构可为一体成型。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中遮光片的表面可包含一消光层。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中内接圆的半径为Ri,外接圆的半径为Ro,其可满足下列条件:46μm≤Ro-Ri≤112μm。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中内接圆的半径为Ri,外接圆的半径为Ro,内接圆端部中相邻二者之间的距离为L,其可满足下列条件:0.27≤(Ro-Ri)/L≤1.32。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中遮光结构的数量为N,其可满足下列条件:28≤N≤93。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中透光部的面积为A1,遮光部的面积为A2,其可满足下列条件:1.05≤A1/A2≤3.4。

依据前段所述实施方式的遮光片,其中各遮光结构的透光部可包含至少一弧线段,且弧线段的曲率中心设置于内接圆的内部。

依据本揭示内容一实施方式提供一种成像镜头,包含前述实施方式的遮光片与至少二光学透镜。光学透镜与遮光片沿中心轴设置于一镜筒内。成像镜头具有一第一视角,第一视角为FOV1,其满足下列条件:18度≤FOV1≤51度。

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