[实用新型]一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材

权利要求书

1.一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：包括靶材背板(1)，所述靶材背板(1)的上表面设置有铜靶材块(2)，所述靶材背板(1)的一侧设置有加压装置(7)，所述铜靶材块(2)的上表面位于铜靶材块(2)的一侧设置有固定定位架(5)，所述靶材背板(1)的上表面位于铜靶材块(2)的另一侧设置有活动定位架(6)，所述加压装置(7)包括调位滑座(9)、固定支板(10)、L形支架(11)、调位滑块(12)、调位螺套(13)、紧固螺杆(16)和防滑旋钮(17)，所述调位滑座(9)的上表面固定安装有固定支板(10)，所述固定支板(10)的一侧表面固定安装有调位螺套(13)，所述固定支板(10)的调位螺套(13)内部穿设有紧固螺杆(16)，所述紧固螺杆(16)的一端固定安装有防滑旋钮(17)，所述调位滑座(9)的内部嵌设有调位滑块(12)，所述调位滑块(12)的一端固定安装有L形支架(11)。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：所述调位滑座(9)的上表面开设有导向滑腔(14)，所述调位滑座(9)的内壁开设有侧边滑轨(15)。

3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：所述铜靶材块(2)包括第一铜靶材(3)和第二铜靶材(4)，所述靶材背板(1)的上表面位于第一铜靶材(3)的一侧设置有第二铜靶材(4)，所述第一铜靶材(3)的一侧表面开设有拼接凹槽(18)，所述第二铜靶材(4)的一侧表面固定安装有拼接卡块(19)，所述靶材背板(1)的上表面位于第一铜靶材(3)和第二铜靶材(4)周围设置有背板安装孔(8)。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：所述L形支架(11)的一端与活动定位架(6)的上表面边缘处固定连接，所述活动定位架(6)通过L形支架(11)与调位滑座(9)滑动连接，所述调位滑座(9)与靶材背板(1)的一侧表面固定连接。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：所述固定定位架(5)与靶材背板(1)的上表面固定连接，所述固定定位架(5)的内侧表面与第二铜靶材(4)的侧面贴合。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜行业溅射靶材中的铜靶材，其特征在于：所述紧固螺杆(16)与调位螺套(13)螺纹连接，所述防滑旋钮(17)的表面设置有防滑纹。