[实用新型]一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置

权利要求书

1.一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的顶部固定安装有保温箱(3)，所述保温箱(3)的内壁底部固定安装有多个均匀分布的伸缩柱(13)，所述伸缩柱(13)的顶部固定安装有放置板(2)，所述伸缩柱(13)的表面活动套接有弹簧(14)，所述放置板(2)的顶部放置有炉体(6)，所述保温箱(3)的内壁表面设置有保温层(4)，所述底座(1)位于保温箱(3)两侧的顶部均活动插接有螺杆(5)，所述螺杆(5)的上表面螺纹套接有顶板(7)，所述顶板(7)的底部固定安装有主体杆(9)，所述主体杆(9)的底部固定安装有盖板(11)，所述主体杆(9)与盖板(11)之间的表面固定套接有箱盖(10)。

2.根据权利要求1所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述底座(1)的内壁底部安装有驱动电机(12)，所述驱动电机(12)的输出端固定安装有第一主动锥齿轮(16)，所述第一主动锥齿轮(16)的表面啮合有两个相互远离的第一从动锥齿轮(17)，两个所述第一从动锥齿轮(17)的内部均固定插接有相互远离的连接杆(18)，所述连接杆(18)远离第一从动锥齿轮(17)的一端固定安装有第二主动锥齿轮(19)。

3.根据权利要求2所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：两个所述螺杆(5)的底部均固定安装有第二从动锥齿轮(20)，且所述第二从动锥齿轮(20)分别与两个第二主动锥齿轮(19)互相啮合。

4.根据权利要求1所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述放置板(2)的顶部开设有与炉体(6)底部相匹配的放置槽。

5.根据权利要求1所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述盖板(11)的底部开设有与炉体(6)顶部相匹配的环形槽(15)。

6.根据权利要求1所述的一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置，其特征在于：所述螺杆(5)的顶部固定安装有限位块(8)。