[实用新型]一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置有效

专利信息
申请号: 202122279742.0 申请日: 2021-09-18
公开(公告)号: CN217664426U 公开(公告)日: 2022-10-28
发明(设计)人: 林海天;李立升;郑礼伟;陈松;杨恺 申请(专利权)人: 东莞市华升真空镀膜科技有限公司
主分类号: B05D3/04 分类号: B05D3/04;B05D3/02;B05D3/00
代理公司: 厦门原创专利事务所(普通合伙) 35101 代理人: 黄伟敏
地址: 523000 广东省东莞市大岭*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 陶瓷 基体 材料 上涂覆 金刚石 薄膜 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,包括装置外壳(1),其特征在于:所述装置外壳(1)内部的中间设置有加热反应空腔(2),所述加热反应空腔(2)内部的上端设置有固定环(7),所述固定环(7)的外部设置有导电线圈(28),所述加热反应空腔(2)内部的下端设置有支撑底板(8),所述支撑底板(8)的下端横向均匀分布有三个喷火口(9),所述装置外壳(1)的上端设置有氩气瓶(5),所述加热反应空腔(2)的一侧设置有密封盖(29)。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述密封盖(29)与装置外壳(1)之间通过第二转动轴(30)转动连接,所述密封盖(29)与氩气瓶(5)之间设置有输气管(6),且输气管(6)与氩气瓶(5)和密封盖(29)均密封连接。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述喷火口(9)下端的一侧设置有点火装置(10),所述点火装置(10)的一侧设置有储油腔(11)。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述加热反应空腔(2)的一侧设置有清洗浸泡腔(3),所述清洗浸泡腔(3)内部一侧的下端设置有第二储水腔(14),所述清洗浸泡腔(3)内部另一侧的下端设置有第三储水腔(15),所述清洗浸泡腔(3)一侧的上端设置有第一储水腔(12),所述第一储水腔(12)的下端设置有出水口(13)。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述第三储水腔(15)的一侧设置有第三滑轨(32),所述第三滑轨(32)的外部设置有固定板(31),且固定板(31)与第三滑轨(32)滑动连接。

6.根据权利要求4所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述清洗浸泡腔(3)的一侧设置有第一伸缩装置(18),所述第一伸缩装置(18)的外部设置有第一滑轨(20),且第一滑轨(20)与第一伸缩装置(18)滑动连接,所述加热反应空腔(2)的一侧设置有真空压力室(4),所述真空压力室(4)的一侧设置有第二伸缩装置(23),所述第二伸缩装置(23)的外部设置有第二滑轨(24),且第二滑轨(24)与第二伸缩装置(23)滑动连接,所述第一伸缩装置(18)和第二伸缩装置(23)的一端均设置有第一夹板(19)。

7.根据权利要求6所述的一种陶瓷基体材料上涂覆金刚石薄膜的前处理装置,其特征在于:所述第一夹板(19)的一侧设置有第二夹板(25),且第二夹板(25)与第一夹板(19)之间通过第一转动轴(26)转动连接,所述第二夹板(25)和第一夹板(19)的一侧均设置有耐高温垫(27)。

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