[实用新型]一种静电吸盘及等离子体处理设备有效
| 申请号： | 202122244078.6 | 申请日： | 2021-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN216015330U | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 熊少游;周毅;张育龙;蔡志勇 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683;H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 柳虹 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 静电 吸盘 等离子体 处理 设备 | ||
1.一种静电吸盘，其特征在于，包括：
吸盘主体，用于吸附固定待处理晶圆；
纵向贯穿所述吸盘主体的顶针；所述顶针尖端设置有压力传感器，用于检测顶针和所述吸盘主体上的待处理晶圆之间的压力。
2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，所述压力传感器的数量为多个。
3.根据权利要求2所述的静电吸盘，其特征在于，多个所述压力传感器在所述吸盘主体的表面上均匀分布。
4.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征在于，还包括：
纵向贯穿所述吸盘主体的顶针穿孔，所述顶针设置在所述顶针穿孔中。
5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其特征在于，所述顶针底部设置有移动装置，用于在纵向和/或横向上移动所述顶针。
6.根据权利要求1-5任意一项所述的静电吸盘，其特征在于，所述吸盘主体的材料为介质材料。
7.根据权利要求1-5任意一项所述的静电吸盘，其特征在于，还包括：
所述吸盘主体内部的静电电极板，所述静电电极板用于连接直流电源。
8.根据权利要求1-5任意一项所述的静电吸盘，其特征在于，还包括：
基座，用于承载所述吸盘主体，所述顶针穿孔贯穿所述基座。
9.根据权利要求8所述的静电吸盘，其特征在于，所述基座的材料为导体材料，用于连接射频信号。
10.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括：
反应腔和如权利要求1-9任意一项所述的静电吸盘，所述静电吸盘位于所述反应腔的底部。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
