[实用新型]一种熔铝除杂的熔剂射流装置

权利要求书

1.一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，包括：

除杂箱(1)；

进料口(2)，所述除杂箱(1)的顶端设置有进料口(2)；

顶转板(4)，所述除杂箱(1)的前端顶部设置有顶转板(4)；

过滤板(5)，所述除杂箱(1)的中部可拆卸设置有过滤板(5)；

底转板(8)，所述除杂箱(1)的前端底部设置有底转板(8)；

收集箱(9)，所述除杂箱(1)的内腔底部设置有收集箱(9)；

搅拌箱(18)，所述除杂箱(1)的内腔中部设置有搅拌箱(18)。

2.根据权利要求1所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述除杂箱(1)的内腔顶部一侧设置有风扇(3)。

3.根据权利要求2所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述顶转板(4)的内端顶部两侧均转动设置有转杆(6)，所述顶转板(4)的内端底部两侧均设置有挡块(7)。

4.根据权利要求3所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述过滤板(5)的底端两侧均设置有侧块(10)，所述侧块(10)的一端滑动设置有震动杆(11)，所述震动杆(11)的一端设置有限位块(12)，所述限位块(12)的一端转动设置有摆动杆(13)的一端，所述摆动杆(13)的另一端转动设置在侧块(10)的另一端，所述摆动杆(13)的表面开设有内滑槽(14)。

5.根据权利要求4所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述内滑槽(14)的内端滑动设置有滑块(15)，所述滑块(15)的另一端转动设置有连接杆(16)的一端，所述连接杆(16)的另一端设置有转盘(17)，所述转盘(17)转动设置在侧块(10)的中部。

6.根据权利要求5所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述搅拌箱(18)的内端设置有搅拌辊(19)，所述搅拌辊(19)的底端设置有电机一(20)，所述搅拌箱(18)的外端设置有加热器(21)，所述加热器(21)的一端设置有控制器(22)，所述控制器(22)设置在除杂箱(1)的外端，所述除杂箱(1)的两端均设置有转钮(23)，所述转钮(23)的内端设置有螺杆(24)，所述螺杆(24)的另一端螺纹设置有挡板(25)，所述搅拌箱(18)的底端两侧均开设有下料槽(26)。

7.根据权利要求6所述的一种熔铝除杂的熔剂射流装置，其特征在于，所述除杂箱(1)的后端一侧设置有电机二(27)，所述电机二(27)的输出端设置有转轴(28)，所述转轴(28)的中部过盈配合有转轮(29)，所述转轮(29)的表面啮合有连接带(30)的一端，所述连接带(30)的另一端啮合有另一个转轮(29)，另一个所述转轮(29)的中心孔过盈配合有另一个转轴(28)，所述转轴(28)的另一端过盈配合有转盘(17)的中心孔。