[实用新型]一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置有效
| 申请号: | 202122170521.X | 申请日: | 2021-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN216160952U | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
| 发明(设计)人: | 李林 | 申请(专利权)人: | 李林 |
| 主分类号: | G02F1/15 | 分类号: | G02F1/15 |
| 代理公司: | 安徽致至知识产权代理事务所(普通合伙) 34221 | 代理人: | 石磊 |
| 地址: | 072750 河北省*** | 国省代码: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 便于 调整 位置 质变 色膜用 生产 装置 | ||
本实用新型公开了一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置,属于钩针机技术领域。一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置,包括安装滑轨和调整机构,将需要进行掩膜处理的电质变色膜放置于内嵌腔的内腔,利用添加块与稳定轴对电质变色膜进行位置限位,且变色膜的宽度不超过添加块的间隔距离,通过通透腔外接通风机构,使其产生的气流对电质变色膜的顶部吹动,使其暂时固定于装置内腔,调整机构整体在外接电机的带动下以串联杆为支点进行往复摆动,最大的摆动幅度调整弯板的两端高度不超过通料孔的顶部,利用往复摆动从而调整电质变色膜的掩膜位置。
技术领域
本实用新型涉及电质变色膜生产技术领域,更具体地说,涉及一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置。
背景技术
掩膜:用选定的图像、图形或物体,对处理的图像(全部或局部)进行遮挡,来控制图像处理的区域或处理过程。用于覆盖的特定图像或物体称为掩模或模板。光学图像处理中,掩模可以是胶片、滤光片等。数字图像处理中,掩模为二维矩阵数组,有时也用多值图像。在进行电质变色膜进行生产的过程中,掩膜为不可缺少的步骤,目前没有较好的生产装置可以实现快速调整掩膜位置。鉴于此,我们提出一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置。
实用新型内容
1.要解决的技术问题
本实用新型的目的在于提供一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
2.技术方案
一种便于调整掩膜位置的电质变色膜用生产装置,包括安装滑轨和调整机构,所述安装滑轨之间活动设置调整机构;
所述安装滑轨包括滑道,所述滑道的上端面中间两侧设置支撑柱,所述支撑柱的顶端连接调整机构;
优选地,所述调整机构包括支撑件,所述支撑件的下端面通过设置的调整弯板连接,所述支撑件的内端之间通过串联杆活动连接。
优选地,所述滑道包括弯曲滑道,所述弯曲滑道的两端对称开设有通料孔。
优选地,所述弯曲滑道的弯曲弧度为1。
优选地,所述支撑件包括两组支撑架体,两组所述支撑架体之间通过衔接柱,所述支撑架体的顶端两侧均对称设置穿插筒。
优选地,所述调整弯板包括板体,所述板体的上端面设置内嵌腔,所述内嵌腔的内腔排列设置添加块,中间所述内嵌腔之间通过排列设置的稳定轴连接,所述板体的两端内腔开设通透腔。
优选地,所述支撑架体为一种类扇形构件。
优选地,所述支撑柱的顶端与穿插筒过盈配合。
3.有益效果
相比于现有技术,本实用新型的优点在于:通过通透腔外接通风机构,使其产生的气流对电质变色膜的顶部吹动,使其暂时固定于装置内腔,调整机构整体在外接电机的带动下以串联杆为支点进行往复摆动,最大的摆动幅度调整弯板的两端高度不超过通料孔的顶部,利用往复摆动从而调整电质变色膜的掩膜位置。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图;
图2为本实用新型滑道结构示意图;
图3为本实用新型调整机构结构示意图;
图4为本实用新型调整弯板结构示意图。
图中标号说明:1、安装滑轨;11、滑道;111、弯曲滑道;112、通料孔;12、支撑柱;2、调整机构;21、支撑件;211、支撑架体;212、衔接柱;213、穿插筒;22、调整弯板;221、板体;222、内嵌腔;223、添加块;224、稳定轴;225、通透腔;23、串联杆。
具体实施方式
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