[实用新型]化学机械研磨设备有效

专利信息
申请号: 202122157805.5 申请日: 2021-09-07
公开(公告)号: CN216371665U 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 曹秉霞;郭伟 申请(专利权)人: 广州粤芯半导体技术有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B27/00
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 罗磊
地址: 510000 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 化学 机械 研磨 设备
【权利要求书】:

1.一种化学机械研磨设备,其特征在于,包括:

传送装置,用于接收待研磨的晶圆和卸载研磨后的晶圆;

多个研磨平台,分别用于研磨所述待研磨的晶圆;

研磨头,安装在安装架上,所述安装架用于带动所述研磨头至所述研磨平台,还用于带动所述研磨头至所述传送装置;

其中,所述研磨头包括一个母头和至少两个子头,所述母头和所有所述子头均通过齿轮连接,所有所述子头用于同时从所述传送装置上各吸取一片所述待研磨的晶圆,所述母头用于带动所述子头旋转,使得所有所述待研磨的晶圆同时在同一所述研磨平台上进行研磨。

2.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述研磨平台为三个,分别为:粗磨平台、细磨平台和精磨平台。

3.如权利要求2所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述安装架为片状,所安装架的中间具有第一旋转轴,所述安装架的边缘具有四个扇叶,每个扇叶上具有一个研磨头。

4.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述母头中间还具有第二旋转轴。

5.如权利要求4所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述第二旋转轴为中空的结构。

6.如权利要求5所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述第二旋转轴的中间还设置有研磨液供给管,所述研磨液供给管用于向所述研磨平台提供研磨液。

7.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,所述子头包括一个齿轮,以及与所述齿轮固定连接的吸盘,所述吸盘用于吸取所述待研磨的晶圆,所述母头包括一个齿轮,所述母头的齿轮与所述子头的齿轮通过互相卡住的方式连接。

8.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,同一个所述研磨头上,所述子头的数量和所述母头的数量的比例为2~4。

9.如权利要求8所述的化学机械研磨设备,其特征在于,每个所述研磨头具有三个子头,所述母头位于中间,三个所述子头分别位于所述母头的周围。

10.如权利要求1所述的化学机械研磨设备,其特征在于,三个所述子头均匀设置在所述母头的周围。

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