[实用新型]芯片减薄装置有效

专利信息
申请号: 202122141406.X 申请日: 2021-09-06
公开(公告)号: CN215700775U 公开(公告)日: 2022-02-01
发明(设计)人: 冯雪;汪照贤;陈颖 申请(专利权)人: 浙江清华柔性电子技术研究院;清华大学
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B27/00;B24B29/02;B24B47/20;H01L21/304
代理公司: 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 代理人: 蔡光仟
地址: 314006 浙江省*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 芯片 装置
【权利要求书】:

1.一种芯片减薄装置,其特征在于,包括传送装置(10)和研磨装置,所述传送装置(10)上设有用于固定芯片(30)的固定件(11),所述研磨装置设于所述固定件(11)远离所述传送装置(10)的一侧并用于对所述芯片(30)进行打磨,所述研磨装置包括研磨轮(20),所述研磨轮(20)的表面与所述固定件(11)的表面在垂直于传送方向(F)的方向上具有间距,所述研磨轮(20)包括粗研磨轮(21)、细研磨轮(22)以及抛光研磨轮(23),所述粗研磨轮(21)、所述细研磨轮(22)以及所述抛光研磨轮(23)的目数依次增大,所述粗研磨轮(21)、所述细研磨轮(22)以及所述抛光研磨轮(23)朝向所述传送方向(F)依次排列。

2.根据权利要求1所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述研磨轮(20)的表面与所述固定件(11)的表面在垂直于传送方向(F)的方向上的间距为200-250μm。

3.根据权利要求1所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述粗研磨轮(21)的表面、所述细研磨轮(22)的表面以及所述抛光研磨轮(23)的表面与所述固定件(11)的表面在垂直于所述传送方向(F)的方向上的间距依次减小。

4.根据权利要求3所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述粗研磨轮(21)的表面以及所述细研磨轮(22)的表面与所述固定件(11)的表面在垂直于所述传送方向(F)的方向上的间距的减小梯度为50-70μm。

5.根据权利要求4所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述细研磨轮(22)的表面以及所述抛光研磨轮(23)的表面与所述固定件(11)的表面在垂直于所述传送方向(F)的方向上的间距的减小梯度为1-5μm。

6.根据权利要求1所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述粗研磨轮(21)与所述细研磨轮(22)的目数差值为1500-5500目。

7.根据权利要求6所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述细研磨轮(22)与所述抛光研磨轮(23)的目数差值为2000-4000目。

8.根据权利要求1所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述粗研磨轮(21)、所述细研磨轮(22)以及所述抛光研磨轮(23)均朝向所述传送方向(F)的方向转动。

9.根据权利要求1所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述固定件(11)为真空吸盘,所述真空吸盘上设有吸气孔(111)。

10.根据权利要求9所述的芯片减薄装置,其特征在于,所述吸气孔(111)的数量为多个。

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