[实用新型]PE光刻版取版装置有效
| 申请号: | 202122135319.3 | 申请日: | 2021-09-06 |
| 公开(公告)号: | CN215642234U | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
| 发明(设计)人: | 唐红梅;王毅 | 申请(专利权)人: | 扬州扬杰电子科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 扬州市苏为知识产权代理事务所(普通合伙) 32283 | 代理人: | 郭翔 |
| 地址: | 225008 江苏省扬*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | pe 光刻 版取版 装置 | ||
PE光刻版取版装置。提供了一种拿取简便、不易使光刻版背面沾污的PE光刻版取版装置。本实用新型包括底板和若干顶针;若干顶针设置在底板上,位于版架的内,与光刻版的边缘无图形区域相对应;若干顶针的高度大于版架的厚度,版架与光刻版分离后,版架与光刻版之间设有间距。若干顶针在底板上形成一侧高一侧低结构,使光刻版有一定的倾斜角度,支撑光刻版边缘,按下版架两边卡扣时,光刻版和版架脱落,留有一定的空间取出光刻版,从而避免了光刻版背面沾污。本实用新型具有拿取简便、不易使光刻版背面沾污等特点。
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术分立器件制造技术领域,尤其涉及PE光刻版取版装置。
背景技术
在半导体制造行业中,Perkin Elmer 661HT(简称PE) 投影扫描式光刻机(中文名称)利用光学反射系统将有1:1图像的光刻版投影到Wafer(硅片)表面,实现曝光作业。PE光刻机有专用的版架,需要频繁的更换光刻版,因光刻版在版架中位置比较紧凑,员工再取光刻版是需要用无名指将光刻版顶出,再取出,易碰到光刻版图形区域,长期操作导致光刻版背面沾污。
实用新型内容
本实用新型针对以上问题,提供了一种拿取简便、不易使光刻版背面沾污的PE光刻版取版装置。
本实用新型的技术方案是: PE光刻版取版装置,包括底板和若干顶针;
若干所述顶针设置在所述底板上,位于版架的内,与光刻版的边缘无图形区域相对应;
若干所述顶针的高度大于所述版架的厚度,所述版架与光刻版分离后,所述版架与光刻版之间设有间距。
若干所述顶针不少于三根。
若干所述顶针为四根。
若干所述顶针包括一对对称设置的第一顶针和一对对称设置的第二顶针;
所述第一顶针的高度大于所述版架的厚度,小于第二顶针的高度。
若干所述顶针可拆卸固定设置在所述底板上。
所述底板上设有若干均布设置的安插孔。
所述顶针的顶部呈弧形结构。
所述顶针的顶部设有弹性层。
所述底板为特氟龙底板。
所述底板上设有若干与版架适配的缓冲机构;
所述缓冲机构包括弹簧和缓冲柱;
所述底板上设有与所述缓冲机构适配的缓冲腔;
所述弹簧设置在所述缓冲腔内,位于所述缓冲柱的下方;
所述缓冲柱呈T型结构,底部限设在所述缓冲腔内,顶部通过弹簧从所述缓冲腔的顶部伸出。
本实用新型包括底板和若干顶针;若干顶针设置在底板上,位于版架的内,与光刻版的边缘无图形区域相对应;若干顶针的高度大于版架的厚度,版架与光刻版分离后,版架与光刻版之间设有间距。若干顶针在底板上形成一侧高一侧低结构,使光刻版有一定的倾斜角度,支撑光刻版边缘,按下版架两边卡扣时,光刻版和版架脱落,留有一定的空间取出光刻版,从而避免了光刻版背面沾污。本实用新型具有拿取简便、不易使光刻版背面沾污等特点。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图,
图2是本实用新型的侧部使用状态结构示意图,
图3是顶针与底板设置状态结构示意图,
图4是图3的仰视结构示意图,
图5是缓冲机构的结构示意图,
图6是顶针的顶部呈弧形结构示意图,
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