[实用新型]高浓污水处理的两级串联光催化氧化处理系统有效
申请号: | 202122067014.3 | 申请日: | 2021-08-31 |
公开(公告)号: | CN214360787U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 朱倩;王伟龙;贾晓解;许铮;潘永月;王铸;邢燕军;李骎 | 申请(专利权)人: | 天津高能时代水处理科技有限公司;北京高能时代环境技术股份有限公司 |
主分类号: | C02F9/08 | 分类号: | C02F9/08 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 王维新 |
地址: | 301600 天津市滨海新区自贸试验区(东疆保*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 污水处理 两级 串联 光催化 氧化 处理 系统 | ||
本实用新型公开了一种高浓污水处理的两级串联光催化氧化处理系统,其中,预处理混凝沉淀装置用于对高浓污水进行预处理,混凝反应区中设置混凝剂加药装置,絮凝反应区中设置絮凝剂加药装置,一级光催化氧化装置和二级光催化氧化装置中设置催化剂加药装置和氧化剂加药装置,一级催化剂分离装置用于对一级光催化氧化装置处理后污水中的催化剂进行分离,设置有COD在线监测装置,二级催化剂分离装置用于对二级光催化氧化装置处理后污水中的催化剂进行分离,并将处理后的污水经由多介质过滤器过滤后输出至出水池中。通过本实用新型的技术方案,通过多次氧化降低污水COD,同时降低有毒有害污染物的浓度,使高浓污水处理后符合排放要求。
技术领域
本实用新型涉及污水处理技术领域,尤其涉及一种高浓污水处理的两级串联光催化氧化处理系统。
背景技术
高浓可生化性差工业废水的处理一直是污水处理的重点和难点,这类废水往往成分复杂,盐分含量高,有毒有害污染物成分多,对生化系统具有一定的毒性,很难直接通过生化进行处理。
高级氧化技术是针对有毒有害难降解废水处理而发展起来的一项污水处理技术,如芬顿氧化技术、臭氧氧化技术、电催化氧化技术等。这些技术通过物理化学等方式生成强氧化性的羟基自由基•OH,它氧化能力极强,能有效氧化各类污染物。光催化氧化技术是新一代高级氧化技术,它通过紫外光激发催化剂的方式,将光能转化为化学能,产生电子,空穴等活性物种,活性物种与水,氧化剂等作用,产生强氧化性羟基自由基,对污染物进行氧化分解,不仅能氧化酚、氰、胺类、有机卤化物等有毒有害污染物,对染料、抗生素等废水也具有非常好的处理效果。
但针对高浓污水,现有的光催化氧化技术通过单一的光催化氧化技术,并不能使高浓污水符合排放要求。
实用新型内容
针对上述问题,本实用新型提供了一种高浓污水处理的两级串联光催化氧化处理系统,通过两级串联的光催化氧化装置对高COD(Chemical Oxygen Demand,化学需氧量)难降解废水进行多次氧化,降低污水COD,同时降低水中有毒有害污染物的浓度,提高B/C(BOD/COD)比,同时通过两级催化剂分离装置分别对两级光催化氧化装置处理后的污水进行催化剂分离,使得出水中无催化剂残留,多介质过滤器能够进一步降低污水ss,保证出水无氧化剂残留,使高浓污水处理后符合排放要求。
为实现上述目的,本实用新型提供了一种高浓污水处理的两级串联光催化氧化处理系统,包括经管道依次连接的预处理混凝沉淀装置、一级光催化氧化装置、一级催化剂分离装置、二级光催化氧化装置、二级催化剂分离装置、多介质过滤器和出水池;所述预处理混凝沉淀装置用于对高浓污水进行预处理,所述预处理混凝沉淀装置分为混凝反应区、絮凝反应区和沉淀区,所述混凝反应区中设置混凝剂加药装置,用于添加混凝剂,所述絮凝反应区中设置絮凝剂加药装置,用于添加絮凝剂;所述一级光催化氧化装置和所述二级光催化氧化装置中设置催化剂加药装置和氧化剂加药装置,分别用于添加催化剂和氧化剂,从而在紫外光和所述催化剂作用下协同促进所述氧化剂分解流经污水中的污染物;所述一级催化剂分离装置用于对所述一级光催化氧化装置处理后污水中的催化剂进行分离,所述一级催化剂分离装置中设置有COD在线监测装置,用于对所述一级光催化氧化装置处理后污水中的COD数值进行监测;所述二级催化剂分离装置用于对所述二级光催化氧化装置处理后污水中的催化剂进行分离,并将处理后的污水经由所述多介质过滤器过滤后输出至所述出水池中。
在上述技术方案中,优选地,所述一级光催化氧化装置和所述二级光催化氧化装置均为折流式反应器,所述折流式反应器中通过隔板分为多个反应区域,污水采用上进下出串联方式分别依次通过所述一级光催化氧化装置和所述二级光催化氧化装置中的多个反应区域。
在上述技术方案中,优选地,所述一级光催化氧化装置和所述二级光催化氧化装置共用一套所述催化剂加药装置和所述氧化剂加药装置,所述催化剂加药装置和所述氧化剂加药装置针对所述一级光催化氧化装置和所述二级光催化氧化装置分别单独进行加药控制。
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