[实用新型]一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构有效
| 申请号: | 202122025171.8 | 申请日: | 2021-08-26 |
| 公开(公告)号: | CN216013858U | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
| 发明(设计)人: | 倪浩;张巍 | 申请(专利权)人: | 湖北科技学院 |
| 主分类号: | G02F1/00 | 分类号: | G02F1/00 |
| 代理公司: | 咸宁鸿信专利代理事务所(普通合伙) 42249 | 代理人: | 刘喜 |
| 地址: | 437100 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 单向 光学 隐身 多层 电介质 结构 | ||
本实用新型提供了一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构,属于光学隐身器件技术领域。多层电介质结构包括两个呈宇称‑时间对称分布的Thue‑Morse(图厄‑摩尔斯,T‑M)序列,T‑M序列SN的迭代规则为:S1=A,N=1;S2=AB,N=2;SN=SN‑1(A→AB,B→BA),N≥3,其中SN‑1中的A→AB表示A由AB代替,B→BA表示B由BA代替,N表示序列的序号,SN表示序列的第N项;A为第一电介质层;B为第二电介质层;第一电介质层和第二电介质层为两种折射率不等的均匀电介质薄片,当某波长值的入射光从一侧入射,通过多层电介质结构反射后的反射光强为零,而该波长的光波从另一侧入射时,反射光强不为零,从而实现该波长值的入射光的单向隐身;改变增益‑损耗因子可实现对隐身波长的调控。
技术领域
本实用新型属于光学隐身器件技术领域,涉及一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构。
背景技术
当电磁波遇到物体时,物体会对电磁波反射或散射。如果要物体电磁波的反射率为零,则无法通过反射观测到物体,即该物体对电场是光学隐身的。光学隐身在飞机和潜艇等方面有着非常广泛地应用,如雷达系统就是通过探测物体的反射光来发现目标。要实现对物体的光学隐身,就需要设计巧妙的光学结构,使电磁波被目标完全吸收或透射,从而实现零反射光强。
近年来,超构材料的研究为光学隐身的发展带来新的发展方向。在超构材料中,把反射体与人工原子组合在一起,使之与电磁波相互作用,从而实现低反射率。但超构材料只能与特定波长的光波相互作用。因此,当波长改变后,隐身的效果就会大打折扣。这就需要寻找一种光学隐身结构来实现对连续多波长、宽频率范围的光学隐身,且能对隐身波长进行灵活地调控。
研究表明,宇称-时间(parity–time,PT)对称结构中正、反向入射的光波有相同的透射特性,但其反射谱不重合,即反射性是非互易的。这种效应可被用于对特定波长的光学定向隐身。另外,PT对称结构的光子晶体,其电介质厚度一般设置为1/4光学波长,它与中心波长成正比,因此,在透射谱和反射谱中,缺陷模的位置是中心频率的函数,即当把PT对称的光子晶体应用于光学隐身时,其隐身波长可以通过中心波长来灵活地调控。
PT对称系统是一种特殊的非厄米结构,当组成PT光学系统的电介质中存在增益或损耗(或二者同时存在)时,系统与外界存在能量交换。PT对称的光学系统可以增强透射模的共振性,且不同方向入射的透射率极大值点和反射率的极小值点不重合。PT对称结构中的电介质复折射率可表示为n=nr±iq,其中nr为折射率的实部,iq折射率的虚部,q为增益-损耗因子,i为虚数单位。各层电介质的折射率在空间上满足条件n(z)=n*(–z),其中*表示复共轭,z为位置坐标。
另外,相比周期性光子晶体,非周期光子晶体具有天然的缺陷腔;而相比准周期性光子晶体,非周期光子晶体的缺陷腔和缺陷模更多,且缺陷模对电场的局域性更强。因此,可以调制非周期光子晶体中的折射率,使其满足PT对称性,从而实现对特定波长的单向光学隐身,再通过控制中心波长,来设置电介质的厚度,进而实现对隐身波长的调制,另外,隐身波长还可以通知电介质中的增益-损耗因子灵活调控。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有的技术存在的上述问题,提供一种可用于单向光学隐身的多层电介质结构,本实用新型所要解决的技术问题是如何实现单向入射光的隐身。
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