[实用新型]一种瓷砖釉面淋釉装置

说明书

本实用新型公开了一种瓷砖釉面淋釉装置，包括支撑底座、淋釉罩体和输釉斗，所述支撑底座上设有罩体支撑竖架，所述罩体支撑竖架上设有罩体支撑托架，所述淋釉罩体安装于罩体支撑托架上；所述支撑底座上设有输釉斗支撑竖架，输釉斗支撑竖架具有支撑横梁，输釉斗安装于支撑横梁上，所述淋釉罩体顶部中心安装设有分釉器，所述输釉斗底部具有与分釉器相对应的输釉嘴。本实用新型通过输釉斗将釉浆输入到除泡网筒内部，通过除泡网筒对所输入的釉浆进行除气泡处理，然后经过内钟罩、外钟罩双重溢流控制，可以得到流量流速可控、压力均衡、无气泡的釉浆，便于对位于淋釉罩体下方的瓷片本体进行高质量、高效率施釉作业，提高了施釉质量及工作效率。

技术领域

本实用新型涉及瓷砖釉面加工设备，尤其涉及一种瓷砖釉面淋釉装置。

背景技术

在瓷砖制作过程中，首先是制作瓷片本体或陶瓷坯体，然后在瓷片本体或陶瓷坯体表面施以釉浆，这样就会在瓷片本体或陶瓷坯体表面形成以干燥釉浆为洁净、光滑、平整的表面。瓷砖表面施釉一般采用淋釉法，淋釉施釉能够快速得到均匀釉层表面，淋釉法对釉浆的要求较高，釉浆制备后可能含有气泡，如果有气泡就会导致釉层不光滑，从而废品率较高；淋釉施釉可以采用淋釉罩或淋釉装置来进行施釉作业，现有淋釉装置在施釉时，其釉浆压力不均匀，釉浆流量流速也无法得到很好的控制，导致其淋釉施釉质量较差，瓷砖表面不光滑或平整度较差或含有气泡而导致坑洼不平，废品率比较高，这是现有淋釉装置很难解决的技术难点。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种瓷砖釉面淋釉装置，通过输釉斗将釉浆输入到除泡网筒内部，通过除泡网筒对所输入的釉浆进行除气泡处理，然后经过内钟罩、外钟罩双重溢流控制，可以得到流量流速可控、压力均衡、无气泡的釉浆，便于对位于淋釉罩体下方的瓷片本体进行高质量、高效率施釉作业，提高了施釉质量及工作效率。

本实用新型的目的通过下述技术方案实现：

一种瓷砖釉面淋釉装置，包括支撑底座、淋釉罩体和输釉斗，所述支撑底座上设有罩体支撑竖架，所述罩体支撑竖架上设有罩体支撑托架，所述淋釉罩体安装于罩体支撑托架上；所述支撑底座上设有输釉斗支撑竖架，所述输釉斗支撑竖架具有支撑横梁，所述输釉斗安装于支撑横梁上，所述淋釉罩体顶部中心安装设有分釉器，所述输釉斗底部具有与分釉器相对应的输釉嘴。

为了更好地实现本实用新型，所述罩体支撑竖架包括四个支撑竖杆，其中两个支撑竖杆固定设于支撑底座左侧，另外两个支撑竖杆固定设于支撑底座右侧，所述罩体支撑托架包括两个支撑托臂，其中一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍升降连接于左右两个支撑竖杆上，另一个支撑托臂两端分别通过升降抱箍升降连接于左右两个支撑竖杆上。

本实用新型提供一种优选的分釉器结构技术方案如下：所述分釉器包括定位板、内钟罩和外钟罩，所述定位板对应安装于内钟罩的罩腔底部，所述定位板中部竖向安装设有除泡网筒；所述内钟罩对应装配于外钟罩的罩腔中，所述内钟罩顶部端面为内溢流顶面，所述外钟罩顶部端面为外溢流顶面，所述外溢流顶面的水平高度高于内溢流顶面的水平高度；所述外钟罩内壁与内钟罩外壁之间为外溢流钟腔，所述内钟罩内壁与除泡网筒的外筒壁之间为内溢流钟腔；所述输釉嘴与除泡网筒的筒腔相对应。

优选地，所述淋釉罩体中部设有第一定位环和位于第一定位环外部的第二定位环，所述第一定位环内具有第一定位环孔，所述定位板配合装配于第一定位环的第一定位环孔中；所述第一定位环与第二定位环之间具有第二定位环孔，所述内钟罩底部配合装配于第一定位环外侧，所述外钟罩底部配合装配于第二定位环外侧。

优选地，所述淋釉罩体整体呈向上凸起的圆弧球面形状，所述淋釉边缘呈斜面结构；所述淋釉罩体底部对应设有接釉槽，所述接釉槽底部设有支架。

优选地，所述除泡网筒呈网状结构，除泡网筒上均匀分布有若干除泡网孔；所述除泡网筒顶部的水平高度低于内溢流顶面的水平高度。

优选地，所述内钟罩呈罩体形状，所述内钟罩的顶部口径小于底部口径，所述内钟罩从顶部到底部呈斜面平滑过渡。