[实用新型]一种带有清洗功能的反应盘机构

权利要求书

1.一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：包括底座(1)、转动设于底座(1)的转轴(2)、与转轴(2)固定连接的转动件(3)、与转动件(3)固定连接的分度盘(4)、与转轴(2)固定连接的转盘(5)；所述转盘(5)上设有多个反应槽(51)；所述带有清洗功能的反应盘机构还包括检测组件；所述转盘(5)用于将反应槽(51)移动至检测组件；

所述分度盘(4)设有多个挡块(41)；所述底座(1)设有光电开关(6)；所述挡块(41)用于遮挡光电开关(6)；所述底座(1)设有用于驱动转动件(3)进行转动的转动组件；所述转动组件与光电开关(6)电性连接；

所述带有清洗功能的反应盘机构还包括清洗座(9)；所述清洗座(9)上设有用于清洗反应槽(51)的清洗组件以及用于驱动清洗组件升降的升降组件。

2.根据权利要求1所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述清洗组件包括升降杆(91)以及设于升降杆(91)的清洗台(92)；所述清洗台(92)活动设有多个吸管(93)；所述吸管(93)与清洗台(92)之间设有缓冲弹簧(94)。

3.根据权利要求2所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述升降组件包括设于清洗座(9)的升降电机(95)、与升降电机(95)输出端连接的升降传输带(96)以及与升降传输带(96)连接的连接块(97)；所述连接块(97)与升降杆(91)连接。

4.根据权利要求3所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述升降组件还包括设于清洗座(9)的滑轨(98)以及与滑轨(98)滑动连接的滑块(99)；所述滑块(99)与升降杆(91)连接。

5.根据权利要求1所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：多个挡块(41)等间距设于分度盘(4)的外周面。

6.根据权利要求1所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述转动组件包括转动电机(71)、与转动电机(71)输出端连接的转动齿轮(72)、与转动齿轮(72)啮合的齿带(73)；所述转动件(3)的外周设有与齿条啮合的齿牙。

7.根据权利要求6所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述底座(1)延伸有支撑板(11)；所述光电开关(6)以及转动电机(71)均设于支撑板(11)。

8.根据权利要求1所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述检测组件包括设于底座(1)的固定座(81)、设于固定座(81)的光发射件(82)以及设于固定座(81)的光接收件(83)；所述固定座(81)在光发射件(82)与光接收件(83)之间设有用于给反应槽(51)让位的让位槽(84)。

9.根据权利要求2所述的一种带有清洗功能的反应盘机构，其特征在于：所述吸管(93)设有吸水海绵(90)。