[实用新型]铜带清洗水循环装置

说明书

本实用新型公开了一种铜带清洗水循环装置，包括箱体、水泵、液位计和阀门装置；所述箱体内部设置有第一隔板，其内部分割成抛光后回水仓和酸后清洗回水仓两个仓体；两个仓体顶部分别设置进水口和水泵，进水口用于接收下一级清洗工序的回水，水泵用于向上一级清洗工序供水，抛光后回水仓上还设置连接有阀门装置的补水口，酸后清洗回水仓上设置液位计，液位计用于检测酸后清洗回水仓内部的水位高度并将水位信号传递给阀门装置；阀门装置通过接收的所述水位信号控制补水口的开启或关闭。本实用新型具有循环利用清洗水和自动补水的优点，能够大幅节约水资源。

技术领域

本实用新型涉及铜带加工技术领域，涉及一种铜带清洗水循环装置。

背景技术

铜带加工过程中涉及多个清洗环节，包括碱液脱脂、酸液清洗、预抛光研磨、抛光等。脱脂刷洗和酸洗后必须用冷水冲洗，将铜带表面残留的碱液、酸液冲洗干净，研磨抛光也需要大量的冷水进行刷洗。

现有清洗线的每一功能单元的冲洗水均单独供给和排放，则水消耗量非常大。通常一条清洗线每年需要数万吨水。碱后冲洗，酸后冲洗，抛光刷洗的水只用一次就作为废水排放工厂污水系统，造成大量浪费。

发明内容

为了克服背景技术中的不足，本实用新型提供一种铜带清洗水循环装置，目的在于，由于抛光后的洗刷水清洁度高于上一级预抛光的洗刷水，于是，抛光后的洗刷水不直接排放，而是按照“逆向供给”的水循环利用思路，将抛光后的水供给上一级预抛光刷洗用，同样预抛光刷洗后的水供给上一级酸后清洗用，如此设计多级利用的水循环装置，从而循环利用清洗水，达到节约用水的目的。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种铜带清洗水循环装置，包括箱体、水泵、液位计和阀门装置；

所述箱体本体呈长方体，其内部设置有纵向布置的第一隔板，将箱体内部分割成抛光后回水仓和酸后清洗回水仓两个仓体；所述抛光后回水仓顶部设置第一进水口、第一水泵和补水口，第一进水口用于接收抛光工序后的清洗水，第一水泵用于向预抛光工序提供清洗水，补水口用于向抛光后回水仓中补充清水；所述酸后清洗回水仓顶部设置第三进水口、第三水泵和液位计，第三进水口用于接收酸洗工序后的清洗水，第三水泵用于向碱后清洗工序提供清洗水，液位计用于检测酸后清洗回水仓内部的水位高度并将水位信号传递给阀门装置；

所述第一隔板的高度小于箱体的内高，用于抛光后回水仓的水满后从第一隔板顶部溢出流向酸后清洗回水仓；

所述阀门装置连接在所述补水口上，阀门装置用于通过接收的所述水位信号控制补水口的开启或关闭。

为了更好的实现发明目的进一步地优化是，所述箱体中还设置有第二隔板；所述第二隔板和第一隔板平行并列排布，将箱体内部分割成抛光后回水仓、预抛光后回水仓和酸后清洗回水仓，共三个仓体；所述预抛光后回水仓顶部设置第二进水口和第二水泵，第二进水口用于接收预抛光工序后的清洗水，第二水泵用于向酸后清洗工序提供清洗水；所述第二隔板的高度小于第一隔板的高度，用于抛光后回水仓的水满后溢出，流经预抛光后回水仓后，再流向酸后清洗回水仓。

为了更好的实现发明目的进一步地优化是，所述酸后清洗回水仓侧面还设有溢流口，溢流口用于控制酸后清洗回水仓的最高水位。

为了更好的实现发明目的进一步地优化是，所述阀门装置为电磁阀控制的气动换向水阀门。

为了更好的实现发明目的进一步地优化是，所述抛光后回水仓、预抛光后回水仓和酸后清洗回水仓侧壁下部均设置有排污口，分别为用于排放抛光后回水仓内沉淀的污水的第一排污口、用于排放预抛光后回水仓内沉淀的污水的第二排污口；和用于排放酸后清洗回水仓内沉淀的污水的第三排污口。

为了更好的实现发明目的进一步地优化是，还包括过滤装置，过滤装置连接在第一进水口、第二进水口和第三进水口三个进水口至少之一上，用于提高清洗水的清洁度。