[实用新型]一种中子辐射屏蔽结构及其制成的屏蔽装置有效
申请号: | 202121991014.6 | 申请日: | 2021-08-23 |
公开(公告)号: | CN216014827U | 公开(公告)日: | 2022-03-11 |
发明(设计)人: | 徐佳梁;吴一舸 | 申请(专利权)人: | 中原运维海外工程有限公司 |
主分类号: | G21F3/00 | 分类号: | G21F3/00 |
代理公司: | 北京中济纬天专利代理有限公司 11429 | 代理人: | 季永康 |
地址: | 201103 上海市徐汇区田*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 中子 辐射 屏蔽 结构 及其 制成 装置 | ||
1.一种中子辐射屏蔽结构,其特征在于,包括:基体,悬挑,所述悬挑在所述基体上柱立,并呈阵列布设状。
2.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑呈六面体形。
3.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑为长方体。
4.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑呈多边体形。
5.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑呈十字体形,并呈阵列相接布设,以形成华夫饼状。
6.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑在基体上的阵列间距小于等于5cm。
7.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述基体与悬挑的连接面为平面。
8.根据权利要求1所述的中子辐射屏蔽结构,其特征在于,所述悬挑垂直于基体阵列布设。
9.一种中子辐射屏蔽装置,包括:屏蔽面,其特征在于,所述屏蔽面采用如权利要求1至8任一所述的中子辐射屏蔽结构制成。
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