[实用新型]一种抛光装置

说明书

本实用新型提供一种抛光装置，包括机架、抛光机构、工作台和控压机构，所述抛光机构包括支撑部、抛光轮和电机，所述支撑部可绕旋转轴线旋转，所述抛光轮和所述电机分别设置在所述支撑部上并分别位于所述旋转轴线的两侧，所述控压机构包括第一端和第二端，所述第一端与所述机架铰接，所述第二端与所述抛光机构铰接，通过所述控压机构调节所述抛光轮与所述工作台之间的距离，使得所述控压机构在调节所述抛光轮与被抛物之间的压力时，抛光轮力矩更小，对所述控压机构的功率要求更低。

技术领域

本实用新型涉及机械领域，尤其涉及一种控压机构调节抛光轮与被抛物之间的压力时，抛光轮力矩较小的抛光装置。

背景技术

机械抛光是对被抛物进行表面处理的一种常规技术，机械抛光一般采用带有磨料的抛光轮作为抛光工具，其中抛光时抛光轮与被抛物之间的压力是决定抛光效果的重要因素之一，压力控制不好会导致被抛物过抛或抛光不足等抛光不良产生，现有技术中，所公开的抛光装置，是将电机悬挂在机架上，并在电机上设置张紧支柱与抛光轮连接，将气缸的一端与张紧支柱铰接，将气缸的另一端与连杆进行铰接，通过气缸来控制抛光轮与被抛物之间的压力，由于抛光轮和电机是悬挂在机架上，导致气缸在调节抛光轮与被抛物之间的压力时，抛光轮转动力矩较大，气缸需要提供较大的推力或拉力，使得气缸运动时所需的能量较大，而且需要提供大功率的气缸，而且工作时稳定性也比较差。

实用新型内容

鉴于此，有必要提供一种控压机构在调节抛光轮与被抛物之间的压力时，抛光轮力矩较小的抛光装置以及提高抛光机构的抛光时的稳定性。

本实用新型提供一种抛光装置，包括机架、抛光机构、工作台和控压机构，所述抛光机构包括支撑部、抛光轮和电机，所述支撑部可绕旋转轴线旋转，所述抛光轮和所述电机分别设置在所述支撑部上并分别位于所述旋转轴线的两侧，所述控压机构包括第一端和第二端，所述第一端与所述机架铰接，所述第二端与所述抛光机构铰接，通过所述控压机构调节所述抛光轮与所述工作台之间的距离。

进一步的，所述抛光机构包括转动轴和连杆，所述转动轴与所述支撑部固定，所述连杆的一端固定在所述转动轴上，所述连杆的另一端与所述第二端铰接。

进一步的，所述第二端与所述支撑部铰接。

进一步的，所述第二端铰接在所述支撑部靠近所述电机的一端。

进一步的，所述第二端铰接在所述支撑部靠近所述抛光轮的一端。

进一步的，所述控压机构包括推杆以及气缸，所述气缸连接所述推杆。

进一步的，所述工作台下方设置有第一支撑板和第二支撑板，所述第一支撑板上设置有第一轨道，所述工作台设置有与所述第一轨道相匹配的第一滑槽，所述第二支撑板上设置有第二轨道，所述第一支撑板设置有与所述第二轨道相匹配的第二滑槽，所述第一轨道垂直于所述第二轨道。

相较于现有技术，本实用新型的有益效果：本实用新型通过将所述抛光轮和所述电机分别设置在所述支撑部上并分别位于所述旋转轴线的两侧，将所述控压机构的所述第一端与所述机架铰接，所述第二端与所述抛光机构铰接，使得所述控压机构在调节所述抛光轮与所述被抛物之间的压力时，所述抛光轮的力矩更小，对所述控压机构的功率要求更低，并且同时也可以提高抛光机构的抛光时的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型一种抛光装置具体实施方式的整体图。

图2为本实用新型一种抛光装置具体实施方式的左视图。

图3为本实用新型一种抛光装置一种具体实施方式的示意图。

图4为本实用新型一种抛光装置另一种具体实施方式的示意图。

具体实施方式