[实用新型]一种晶体真空镀膜器设备

说明书

本实用新型公开了一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱、支撑机构，所述镀膜箱的后内侧面活动连接有转杆，所述转杆的侧表面固定连接有镀膜头，所述镀膜箱的内顶部固定连接有液压缸，所述液压缸的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离液压缸的一端固定连接有齿板，所述转杆的侧表面固定连接有齿环，所述镀膜箱的上表面固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有第一旋转轴。本实用新型，通过设置连接软管、齿板、齿环，能够对镀膜头进行角度调整，在对晶片进行镀膜时可以更加地快速，提高镀膜的速率，通过设置第一旋转轴、转环、第二旋转轴，能够使晶片在镀膜时镀膜的更加均匀，提高晶片的镀膜效果。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜器设备领域，尤其涉及一种晶体真空镀膜器设备。

背景技术

晶体在使用时，需要对晶体的电极等部件进行银层镀膜，以防止晶体氧化，导致晶体使用寿命缩减，在镀膜时需要用到真空镀膜设备，真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

目前一些真空镀膜器设备无法均匀对晶体进行镀膜，导致晶体表面镀膜的效果较差，而且一些真空镀膜器设备的镀膜速率较慢，导致设备的实用性降低。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种晶体真空镀膜器设备。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种晶体真空镀膜器设备，包括镀膜箱、支撑机构，所述镀膜箱的后内侧面活动连接有转杆，所述转杆的侧表面固定连接有镀膜头，所述镀膜箱的内顶部固定连接有液压缸，所述液压缸的输出端固定连接有伸缩杆，所述伸缩杆远离液压缸的一端固定连接有齿板，所述转杆的侧表面固定连接有齿环；

所述镀膜箱的上表面固定连接有第一电机，所述第一电机的输出端固定连接有第一旋转轴，所述第一旋转轴的侧表面固定连接有连接块，所述连接块的内部固定连接有第二电机，所述第二电机的输出端固定连接有第二旋转轴，所述连接块的侧表面活动连接有转环；

所述连接块的左右两端均设置连接板，所述连接板的内侧面固定连接有弹簧，所述弹簧的底端固定连接有压板，所述连接板的有右侧面固定连接有连接杆。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述支撑机构包含支撑板、支撑柱、横杆，所述支撑板与镀膜箱的下表面固定连接，所述支撑柱与支撑板的底端固定连接，所述横杆与支撑柱的侧表面固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述支撑板的上表面且位于镀膜箱的左侧固定连接有箱体，所述箱体的右侧面固定连接有连接软管。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述连接软管远离箱体的一端延伸至箱体的内部，且与镀膜头的输入端相连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述支撑板的上表面且位于镀膜箱的右侧固定连接有真空泵，所述真空泵的输入端固定连接有连接管，所述连接管远离真空泵的一端延伸至镀膜箱的内部。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第二旋转轴远离第二电机的一端与连接板的右侧面固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述齿板与齿环啮合，所述连接杆远离连接板的一端与转环的外侧面固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：

所述第一旋转轴远离第一电机的一端延伸至镀膜箱的内部，且位于镀膜头的右侧。

本实用新型具有如下有益效果：