[实用新型]一种stamp基底

说明书

本实用新型提供一种stamp基底，包括PET膜；所述PET膜的其中一侧表面设置有第一玻璃层，所述PET膜和第一玻璃层之间通过第一光刻胶层进行连接形成第一面stamp基底；所述PET膜的另一侧表面设置有第二玻璃层，所述PET膜和第二玻璃层之间通过第二光刻胶层进行连接形成第二面stamp基底。通过将stamp基底由PET膜，转移到玻璃基底上，在PET膜的两侧通过光刻胶层连接玻璃层，这样可以保证在压印后脱模过程中，拉扯PET膜，玻璃不会产生明显形变，因此stamp胶不会产生形变，进而产品压印不会存在形变保证对位，能够保证纳米压印整面对位的稳定性，能够满足纳米压印整面对位±5微米的要求。

技术领域

本实用新型属于纳米压印stamp基底领域，具体属于一种stamp基底。

背景技术

纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。通过光刻胶辅助，将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术。该技术通过机械转移的手段，达到了超高的分辨率，是微电子、材料领域的重要加工手段。

现有技术中的纳米压印stamp基底为0.25mm厚度的PET基底膜，在压印和脱模过程中PET存在X和Y方向的形变量，其X方向形变量大约5μm，Y方向形变量大约10μm，导致在产品压印过程中片与片之间对位不稳定，而纳米压印要求整面对位稳定，现有stamp基底PET材质存在形变，不能满足生产制造的需求。其PET基底stamp在压印和脱模过程中形变(X方向存在收缩，Y方向存在拉伸形变)如图1至图3所示。

实用新型内容

为了解决现有技术中存在的问题，本实用新型提供一种stamp基底，能够保证纳米压印整面对位的稳定性，能够满足纳米压印整面对位±5微米的要求。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种stamp基底，包括PET膜；

所述PET膜的其中一侧表面设置有第一玻璃层，所述PET膜和第一玻璃层之间通过第一光刻胶层进行连接形成第一面stamp基底；

所述PET膜的另一侧表面设置有第二玻璃层，所述PET膜和第二玻璃层之间通过第二光刻胶层进行连接形成第二面stamp基底。

优选的，所述第一玻璃层和第二玻璃层的厚度范围均为70～100μm。

优选的，所述第一玻璃层和第二玻璃层的厚度相同。

优选的，所述第一光刻胶层和第二光刻胶层的厚度范围均为5～10μm。

优选的，所述第一光刻胶层和第二光刻胶层的厚度相同。

优选的，所述第一光刻胶层和第二光刻胶层通过UV固化方式粘结PET膜和玻璃层。

优选的，所述PET膜的厚度范围为0.25～0.5mm。

优选的，所述第一玻璃层上采用spin-coating的加工方式涂覆第一光刻胶层。

优选的，所述第二玻璃层上采用spin-coating的加工方式涂覆第二光刻胶层。

与现有技术相比，本实用新型具有以下有益的技术效果：

本实用新型提供一种stamp基底，通过将stamp基底由PET膜，转移到玻璃基底上，在PET膜的两侧通过光刻胶层连接玻璃层，这样可以保证在压印后脱模过程中，拉扯PET膜，玻璃不会产生明显形变，因此stamp胶不会产生形变，进而产品压印不会存在形变保证对位，第一玻璃层能够保证在滚压印过程中，压力面有PET膜变更为玻璃，降低滚压过程中stamp基底产生的形变；第二玻璃层能够同时降低压印和脱模过程中stamp基底产生的形变，两者共同作用，降低stamp基底形变，保证压印和脱模过程图案的稳定性，保证片与片之间的稳定性，保证对位效果。

附图说明