[实用新型]一种用于研磨抛光设备的安全防护机构有效
申请号: | 202121750737.7 | 申请日: | 2021-07-29 |
公开(公告)号: | CN215148078U | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 项伟琪;朱枫;郭政建 | 申请(专利权)人: | 浙江森永光电设备有限公司 |
主分类号: | B24B37/34 | 分类号: | B24B37/34;B24B41/02;B24B55/00 |
代理公司: | 嘉兴中创致鸿知识产权代理事务所(普通合伙) 33384 | 代理人: | 姚海波 |
地址: | 314031 浙江省嘉兴市*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 研磨 抛光 设备 安全 防护 机构 | ||
一种用于研磨抛光设备的安全防护机构,包括工作台、突出设置于工作台的一侧的第一支架、突出设置于工作台的另一侧的第二支架、设置于工作台上的下导轨组件、两个分别设置于第一支架及第二支架上的上导轨组件、活动设置于下导轨组件与上导轨组件之间的活动门组件;工作台于第一支架与第二支架之间开设有研磨区域;下导轨组件突出设置于研磨区域的外侧,上导轨组件设置于第一支架及第二支架相向的一侧且位于下导轨组件的上方;活动门组件包括半圆形的外侧门及半圆形的内侧门;外侧门及内侧门的底部均活动地位于下导轨组件中,顶部部分地位于上导轨组件中。外侧门与内侧门可合围形成防护圈,如此提高安全性、减少研磨液溅出、减少研磨液消耗且减少污染。
技术领域
本实用新型涉及研磨抛光技术领域,特别是一种用于研磨抛光设备的安全防护机构。
背景技术
研磨抛光设备的研磨盘在一工作台上转动,现有的研磨抛光设备在工作台上未设置安全防护机构,人体容易进入到研磨盘的研磨区域,从而可能发生安全事故。另外工作台上的研磨液也容易被甩出,研磨液消耗较大且污染工作环境。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供了一种提高安全性、减少研磨液溅出、减少研磨液消耗且减少污染的用于研磨抛光设备的安全防护机构,以解决上述问题。
一种用于研磨抛光设备的安全防护机构,包括工作台、突出设置于工作台的一侧的第一支架、突出设置于工作台的另一侧的第二支架、设置于工作台上的下导轨组件、两个分别设置于第一支架及第二支架上的上导轨组件、活动设置于下导轨组件与上导轨组件之间的活动门组件;工作台于第一支架与第二支架之间开设有研磨区域;下导轨组件突出设置于研磨区域的外侧,上导轨组件设置于第一支架及第二支架相向的一侧且位于下导轨组件的上方;活动门组件包括半圆形的外侧门及半圆形的内侧门;外侧门及内侧门的底部均活动地位于下导轨组件中,顶部部分地位于上导轨组件中。
进一步地,所述上导轨组件包括与第一支架或第二支架连接的连接件、与连接件连接的第一弧形段;第一弧形段的底面突出设置有三个弧形隔片,三个弧形隔片同心设置,且相对弧形的圆心的半径依次增大或减少。
进一步地,所述三个弧形隔片分别为外侧隔片、中部隔片及内侧隔片,外侧隔片与中部隔片之间形成第一外导槽,中部隔片与内侧隔片之间形成第一内导槽;外侧门的顶部部分地位于第一外导槽中,内侧门的顶部部分地位于第一内导槽中。
进一步地,所述下导轨组件包括突出设置于工作台上且位于研磨区域的外侧的第一凸环、突出设置于工作台上且位于第一凸环外侧的第二凸环、突出设置于工作台上且位于第二凸环外侧的第三凸环,第一凸环与第二凸环之间形成第二内导槽,第二凸环与第三凸环之间形成第二外导槽;外侧门的底部位于第二外导槽中,内侧门的底部位于第二内导槽中。
进一步地,所述第一凸环与第二凸环的高度相同,第三凸环的高度大于第一凸环或第二凸环的高度。
进一步地,所述第一凸环及第二凸环上间隔开设有若干缺口。
进一步地,所述外侧门的外侧设置有第一把手。
进一步地,所述内侧门的外侧设置有第二把手。
与现有技术相比,本实用新型的用于研磨抛光设备的安全防护机构包括工作台、突出设置于工作台的一侧的第一支架、突出设置于工作台的另一侧的第二支架、设置于工作台上的下导轨组件、两个分别设置于第一支架及第二支架上的上导轨组件、活动设置于下导轨组件与上导轨组件之间的活动门组件;工作台于第一支架与第二支架之间开设有研磨区域;下导轨组件突出设置于研磨区域的外侧,上导轨组件设置于第一支架及第二支架相向的一侧且位于下导轨组件的上方;活动门组件包括半圆形的外侧门及半圆形的内侧门;外侧门及内侧门的底部均活动地位于下导轨组件中,顶部部分地位于上导轨组件中。外侧门与内侧门可合围形成防护圈,如此提高安全性、减少研磨液溅出、减少研磨液消耗且减少污染。
附图说明
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