[实用新型]一种多孔集流体有效
| 申请号: | 202121747398.7 | 申请日: | 2021-07-29 |
| 公开(公告)号: | CN215496794U | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
| 发明(设计)人: | 宋贺;梁天;邓勇强;刘东任;李辉;冯苏宁 | 申请(专利权)人: | 溧阳紫宸新材料科技有限公司 |
| 主分类号: | H01M4/80 | 分类号: | H01M4/80;H01M4/66;H01M4/13;H01M10/052 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 边人洲 |
| 地址: | 213300 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 多孔 流体 | ||
1.一种多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体遍布通孔,所述通孔的孔壁表面依次设置离子导通层和亲锂层。
2.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体的厚度为50~200μm。
3.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述离子导通层的厚度为5~20nm。
4.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述亲锂层的厚度为5~10nm。
5.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述离子导通层的厚度大于等于所述亲锂层的厚度。
6.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体的孔隙率为60~80%。
7.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述通孔的孔径为50~250nm。
8.根据权利要求1所述的多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体的表面依次层叠设置离子导通层和亲锂层。
9.根据权利要求8所述的多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体表面的离子导通层的厚度为5~20nm。
10.根据权利要求8所述的多孔集流体,其特征在于,所述多孔集流体表面的亲锂层的厚度为5~10nm。
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