[实用新型]一种湿法冶炼中转高位液池的池底密封装置

说明书

本实用新型属于湿法冶炼技术领域，涉及一种湿法冶炼中转高位液池的池底密封装置。该装置，包括套管、密封机构、顶紧机构、旋转机构、接液机构，密封机构包括堵板和顶紧盖，顶紧机构包括顶杆、顶紧球、顶杆旋转手柄、顶紧螺母，旋转机构包括主旋转臂、旋转装置、支撑柱、固定螺杆、固定装置、套筒、次旋转臂，接液机构包括接液斗、顶盖固定座。该装置，可对中转高位液池的池底进行密封以及池底孔洞的打开，便于池内硫酸铵结晶的清理，节约人力、节约时间。

技术领域

本实用新型属于湿法冶炼技术领域，涉及一种湿法冶炼中转高位液池的池底密封装置。

背景技术

湿法冶炼都会使用中转高位液池；在大型湿法冶炼工序中，中转高位池平均每天会产生大量的液体硫酸铵结晶沉淀，而当结晶沉淀物达到2m左右时就得清理一次；每月所有高位液池必须保证清理三遍。目前，中转高位液池全部靠人工结合大量的电动工器具进行清理，十分耗费人力和时间。而如果清理不及时，还会造成液体静置时间短、杂质多等问题，影响液体质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种湿法冶炼中转高位液池的池底密封装置，可快速高效的清理中转高位液池池底的结晶沉淀，节省时间、节约人力。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下。

一种湿法冶炼中转高位液池的池底密封装置，包括套管、密封机构、顶紧机构、旋转机构、接液机构；套管的形状为两端开口大、中部逐渐收缩的中空管结构；密封机构包括堵板和顶紧盖，堵板为圆形板结构，堵板位于套管的下方、且其外圈形状与套管下部开口处的内圈形状一致，顶紧盖固定于堵板的下方、且其下端面开设有内凹的球面凹槽；顶紧机构包括顶杆、顶紧球、顶杆旋转手柄、顶紧螺母；顶杆的上端固定有顶紧球、下端固定有顶杆旋转手柄，顶紧螺母套装于顶杆的杆体上、并与顶杆螺纹连接；顶紧球位于顶紧盖的球面凹槽内；旋转机构包括主旋转臂、旋转装置、支撑柱、固定螺杆、固定装置、套筒、次旋转臂；主旋转臂的一端通过旋转装置与支撑柱连接，另一端通过固定螺杆与固定装置连接，套筒套装于支撑柱上，次旋转臂的一个端部与套筒连接、下部通过连接杆与主旋转臂连接；接液机构包括接液斗、顶盖固定座；接液斗为圆形的料斗结构、且其开口面积大于堵板的面积，接液斗的底端固定于次旋转臂上；接液斗的圆心处开设有通孔，顶盖固定座设置于通孔内、且位于顶紧盖的下方；顶紧机构的顶杆自下至上依次穿过主旋转臂、次旋转臂、顶盖固定座，顶紧机构的顶紧螺母固定于主旋转臂上。上述技术方案，先将套管上部套装于中转高位液池池底的孔洞内，再通过顶紧机构向上推动密封机构，实现对套管底部的密封；当需要打开池底进行清理时，通过顶紧机构向下推动密封机构，池内的液体流入接液斗，再通过旋转机构旋转密封装置，使池底孔洞打开，实现对池底结晶物的清理；另外，堵板下方设置的带有内凹的球面凹槽的顶紧盖，使得顶杆上端固定的顶紧球与堵板下方成球面接触，进而使堵板在上升过程中与套管接触密封时为柔性接触，增强堵板与套管之间的密封效果。

进一步地，该池底密封装置中，旋转装置包括上旋转盘、下旋转盘、固定筋板；上旋转盘和下旋转盘由上至下依次套装于支撑柱的柱体上，下旋转盘通过固定筋板与支撑柱连接；主旋转臂与上旋转盘连接。通过该旋转装置，实现主旋转臂的360°旋转。

进一步地，该池底密封装置中，旋转装置还包括滚珠；上旋转盘的下部、下旋转盘的上部均对应开设有一圈环形凹槽，滚珠的数量为若干个、且设置于上旋转盘与下旋转盘之间并镶嵌于环形凹槽内。通过设置滚珠，使主旋转臂的旋转更加顺畅。

进一步地，该池底密封装置中，套管包括上下连接的上部管、下部管；上部管的上端开口直径逐渐增大，下部管的下端开口直径逐渐增大，堵板的外圈为倾斜的斜面结构。该堵板结构，一方面可增加与套管内表面的接触面积、密封性更好，另一方面可协助池内液体顺着堵板的外圈流入接液斗内。

进一步地，该池底密封装置中，密封机构还包括密封垫；密封垫设置于堵板的外圈上；进一步增强堵板与套管之间的密封效果。