[实用新型]清洁基站及清洁装置

权利要求书

1.一种清洁基站，其特征在于，所述清洁基站(1)用于清洗清洁设备(2)的地刷(20)，所述地刷(20)包括第一清洁件(21)和第二清洁件(22)，所述清洁基站(1)包括基站主体(10)和喷水组件(11)，所述基站主体(10)具有容纳所述第一清洁件(21)和所述第二清洁件(22)的清洗槽(100)，所述喷水组件(11)包括喷水件(110)，所述喷水件(110)上开设有至少两个喷水口，所述至少两个喷水口分别朝向所述第一清洁件(21)和所述第二清洁件(22)。

2.根据权利要求1所述的清洁基站，其特征在于，所述喷水件(110)凸出设置于所述清洗槽(100)的槽底，所述清洗槽(100)包括第一槽位(1001)和第二槽位(1002)，所述第一槽位(1001)和所述第二槽位(1002)分别位于所述喷水件(110)的两侧，所述第一槽位(1001)用于容纳所述第一清洁件(21)，所述第二槽位(1002)用于容纳所述第二清洁件(22)。

3.根据权利要求2所述的清洁基站，其特征在于，所述喷水件(110)具有清洁水道(1100)，所述喷水口与所述清洁水道(1100)连通，所述清洁水道(1100)沿所述清洗槽(100)的宽度方向延伸。

4.根据权利要求3所述的清洁基站，其特征在于，所述至少两个喷水口包括第一喷水口(1101)和第二喷水口(1102)，所述第一喷水口(1101)和所述第二喷水口(1102)分别位于所述喷水件(110)的相对两侧，所述第一喷水口(1101)朝向所述第一清洁件(21)，所述第二喷水口(1102)朝向所述第二清洁件(22)。

5.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述第一喷水口(1101)为多个，多个所述第一喷水口(1101)沿所述清洁水道(1100)的延伸方向间隔分布。

6.根据权利要求4所述的清洁基站，其特征在于，所述第二喷水口(1102)为两个，两个所述第二喷水口(1102)分别位于所述清洁水道(1100)的两端。

7.根据权利要求1-6任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述喷水口出水截面的尺寸沿喷水方向逐渐减小。

8.根据权利要求4-6任一项所述的清洁基站，其特征在于，所述喷水件(110)包括第一壳体(111)和第二壳体(112)，所述第一壳体(111)与所述第二壳体(112)盖合形成所述清洁水道(1100)，所述第二壳体(112)位于所述第一壳体(111)背离所述清洗槽(100)的一侧，所述喷水口开设在所述第一壳体(111)上。

9.根据权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述第一壳体(111)凸出于所述清洗槽(100)的槽底，所述第一壳体(111)具有沿所述清洗槽(100)宽度方向延伸的脊部，所述脊部将所述清洗槽(100)分隔为所述第一槽位(1001)和所述第二槽位(1002)，所述第一喷水口(1101)和所述第二喷水口(1102)分别位于所述脊部的两侧，所述第一喷水口(1101)朝向所述第一槽位(1001)，所述第二喷水口(1102)朝向所述第二槽位(1002)。

10.根据权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述第一壳体(111)与所述清洗槽(100)的槽底一体成型。

11.根据权利要求8所述的清洁基站，其特征在于，所述喷水件(110)上还开设有进水口(1103)，所述进水口(1103)位于所述第二壳体(112)上。

12.根据权利要求1-6任一项所述的清洁基站，其特征在于，还包括清洗盘(12)，所述清洗盘(12)可拆卸的设置于所述清洗槽(100)中，所述第一清洁件(21)和所述第二清洁件(22)均位于所述清洗盘(12)内。