[实用新型]一种真空吸附台面有效

专利信息
申请号: 202121393781.7 申请日: 2021-06-22
公开(公告)号: CN215393954U 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 修云飞 申请(专利权)人: 浙江广旭数控设备有限公司
主分类号: B23Q3/08 分类号: B23Q3/08
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 刘正君
地址: 311122 浙江省杭州市余*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸附 台面
【权利要求书】:

1.一种真空吸附台面,包括铝板台面(1)以及设置在铝板台面周围的水槽;其特征在于,所述的铝板台面上设置有若干互相垂直的密封条槽(2);密封条槽将铝板台面分割成呈矩阵式分布的若干个凸台(3);所述铝板台面上还开设有若干个真空吸附孔(4),真空吸附孔均分别设置在凸台上;铝板台面由铝板一体化加工而成;真空吸附孔分别通过管路连接到真空泵,管路上分别设置有电磁阀。

2.根据权利要求1所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的真空吸附孔(4)开设在凸台(3)的中央,凸台上以真空吸附孔中心对称开设有若干均压槽(5),均压槽连通真空吸附孔和密封条槽(2)。

3.根据权利要求2所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的均压槽(5)高于密封条槽(2)。

4.根据权利要求1所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的铝板台面(1)下方设置有压电薄膜,压电模块连接有控制器,控制器与电磁阀连接。

5.根据权利要求4所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的压电薄膜呈矩阵式,矩阵式的压电薄膜分别对应设置在凸台(3)下方。

6.根据权利要求4或5所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的压电薄膜设置在真空吸附孔周围的凸台(3)下方。

7.根据权利要求6所述的一种真空吸附台面,其特征在于,所述的压电薄膜之间间隔额定个数的凸台(3)设置。

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