[实用新型]一种固态去耦合器底座伸缩结构有效

专利信息
申请号: 202121330238.2 申请日: 2021-06-16
公开(公告)号: CN215111803U 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 仪德强;陈林;胡钊;姚玉芳;赵珊珊;吴玲玲 申请(专利权)人: 上海金属腐蚀与防护技术有限公司
主分类号: F16M11/38 分类号: F16M11/38
代理公司: 池州市卓燊知识产权代理事务所(普通合伙) 34211 代理人: 李强
地址: 200120 上海*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 固态 耦合器 底座 伸缩 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种固态去耦合器底座伸缩结构,包括:安装箱和固态去耦合器本体,所述安装箱上设有通孔,所述固态去耦合器本体放置在安装箱内部;还包括:调节装置,所述调节装置用于调节固态去耦合器本体的高度来让固态去耦合器本体方便通过通孔与外界相连,本实用新型通过设有调节装置,可以解决传统的固态去耦合器底座通过螺栓固定在安装箱内,高度不变,安装时需要准确配合固态去耦合器和安装箱才能完成安装,不能适应不同规格的安装箱的问题。

技术领域

本实用新型涉及固态去耦合器技术领域,具体为一种固态去耦合器底座伸缩结构。

背景技术

固态去耦合器(SSD)系列秉承了DEI公司为防腐工业提供创新防腐产品的传统,采用了DEI公司自行研发的固态技术,由于SSD重量轻,采用非金属外壳,因此被广泛用于阴极保护系统中。

传统的固态去耦合器底座通过螺栓固定在安装箱内,高度不变,安装时需要准确配合固态去耦合器和安装箱才能完成安装,不能适应不同规格的安装箱,为此,我们提出一种固态去耦合器底座伸缩结构。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可以解决传统的固态去耦合器底座通过螺栓固定在安装箱内,高度不变,安装时需要准确配合固态去耦合器和安装箱才能完成安装,不能适应不同规格的安装箱的问题的固态去耦合器底座伸缩结构,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种固态去耦合器底座伸缩结构,包括:安装箱和固态去耦合器本体,所述安装箱上设有通孔,所述固态去耦合器本体放置在安装箱内部;还包括:调节装置,所述调节装置用于调节固态去耦合器本体的高度来让固态去耦合器本体方便通过通孔与外界相连,本实用新型通过设有调节装置,可以解决传统的固态去耦合器底座通过螺栓固定在安装箱内,高度不变,安装时需要准确配合固态去耦合器和安装箱才能完成安装,不能适应不同规格的安装箱的问题。

优选的,所述调节装置包括上安装块、下安装块和活动件,所述上安装块与固态去耦合器本体底部固定,所述上安装块远离固态去耦合器本体的一侧设有第一凹槽,所述下安装块底部设有安装条,所述安装条上设有安装孔,所述安装孔设有两个,对称分布在下安装块两侧,所述安装条通过螺栓与安装箱内侧底部固定,所述下安装块远离安装条的一端设有第二凹槽,所述活动件连接上安装块和安装块来调节固态去耦合器本体的高度,实现对固态去耦合器本体的高度调节。

优选的,所述活动件包括上连接块、下连接块和调节件,所述第一凹槽内设有第一固定轴,所述第一固定轴设有两个,对称分布在第一凹槽内部,所述上连接块设有四个,对称分布在第一固定轴两端,且一端被第一固定轴贯穿与第一固定轴转动连接,所述第二凹槽内设有第二固定轴,所述第二固定轴设有多个,对称分布在第二凹槽内部,所述下连接块设有四个,对称分布在第二固定轴两端,且一端被第二固定轴贯穿与第二固定轴转动连接,所述调节件用于连接上连接块与下连接块,实现对上连接块和下连接块的转动的效果。

优选的,所述调节件包括调节块、正反丝杆和发力结构,所述调节块设有两个,对称分布在上连接块与下连接块之间,所述调节块上设有第三固定轴,所述第三固定轴设有多个,对称分布在调节块两侧,所述第三固定轴贯穿上连接块远离第一固定轴的一端且与上连接块转动连接,所述第三固定轴贯穿下连接块远离第二固定轴的一端且与下连接块转动连接,所述调节块上设有螺纹孔,所述螺纹孔位于两个第三固定轴之间,所述正反丝杆贯穿螺纹孔与调节块螺纹连接,所述发力结构固定在正反丝杆两端用于驱动正反丝杆转动,实现对上连接块与下连接块夹角的准确调节。

优选的,所述发力结构包括固定块,所述固定块设有两个,对称分布在正反丝杆两端,所述固定块远离正反丝杆的一端设有内六角槽,方便操作人员对正反丝杆进行转动。

与传统技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型通过设有调节装置,方便对固态去耦合器本体的高度进行调节,以适应不同规格的安装箱,解决传统的固态去耦合器底座通过螺栓固定在安装箱内,高度不变的问题。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海金属腐蚀与防护技术有限公司,未经上海金属腐蚀与防护技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202121330238.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top