[实用新型]辅助金属表面间歇式涂覆的装置有效
申请号: | 202121326335.4 | 申请日: | 2021-06-15 |
公开(公告)号: | CN215030743U | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
发明(设计)人: | 冉杰;罗湘平;游彭飞;陆伟 | 申请(专利权)人: | 新疆众和股份有限公司 |
主分类号: | B05C13/02 | 分类号: | B05C13/02 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 孟阿妮;张小勇 |
地址: | 830000 新疆维吾尔自治区乌鲁木齐*** | 国省代码: | 新疆;65 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 辅助 金属表面 间歇 式涂覆 装置 | ||
本实用新型公开了一种辅助金属表面间歇式涂覆的装置,涉及烧结箔工艺技术领域,主要目的是提升烧结箔样片的制备效率。本实用新型的主要技术方案为:辅助金属表面间歇式涂覆的装置,该装置包括:板体和多个通孔槽;所述板体贴附于基材箔的箔面;多个所述通孔槽矩阵排列于所述板体,每一个所述通孔槽的内缘设有环形凹台面,所述环形凹台面背离基材箔的箔面。
技术领域
本实用新型涉及烧结箔工艺技术领域,尤其涉及一种辅助金属表面间歇式涂覆的装置。
背景技术
在铝电解电容器用腐蚀箔生产过程中,腐蚀生产工艺对环境有着一定程度的影响。按照国家对环境保护要求,烧结箔工艺的研发将逐渐缓解或有效解决腐蚀生产工艺对环境的影响。在烧结箔工艺开发过程中需要大批量的小样片的测试和对比。根据测试样片要求,边部需要留有一定宽度的基材箔作为检测负极。目前涂覆设备只能实现有效宽度和有效长度的连续整体涂覆。导致出现涂覆大量单片样片和大量裁剪工作以及编号管理分析效率低等问题。所以,现有的涂覆设备不适用于烧结箔工艺开发过程中的小样片制作。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型提供一种辅助金属表面间歇式涂覆的装置,主要目的是提升烧结箔样片的制备效率。
为达到上述目的,本实用新型主要提供如下技术方案:
本实用新型提供了一种辅助金属表面间歇式涂覆的装置,该装置包括:板体和多个通孔槽;
所述板体贴附于基材箔的箔面;
多个所述通孔槽矩阵排列于所述板体,每一个所述通孔槽的内缘设有环形凹台面,所述环形凹台面背离基材箔的箔面。
本实用新型的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
可选的,每一个所述通孔槽的内缘轮廓为第一矩形,每一个所述环形凹台面的内缘轮廓为第二矩形,所述第一矩形的几何中心重合于所述第二矩形的几何中心。
可选的,还包括多个螺栓孔,多个所述螺栓孔均布于所述板体,用于穿设螺栓。
可选的,所述板体包括第一板体和第二板体,所述第一板体和所述第二板体镜像对称贴附于基材箔的相对箔面。
可选的,多个所述通孔槽按照四行两列的形式排列于所述板体,多个所述螺栓孔按照两行三列的形式排列于所述板体,三列所述螺栓孔和两列所述通孔槽交替排列,多个所述螺栓孔设置于所述板体的边缘。
可选的,所述第一矩形的长度为60mm,所述第一矩形的宽度为30mm,所述第二矩形的长度为50mm,所述第二矩形的宽度为20mm。
可选的,所述第一矩形的四个角分别为圆角。
可选的,包括三种规格的所述板体,第一种规格的所述板体中的所述环形凹台面和基材箔的箔面的距离为40μm,第二种规格的所述板体中的所述环形凹台面和基材箔的箔面的距离为50μm,第三种规格的所述板体中的所述环形凹台面和基材箔的箔面的距离为60μm。
借由上述技术方案,本实用新型至少具有下列优点:
在使用本装置的时候,先将基材箔放置于水平支撑物的表面,再将板体贴放于基材箔的上箔面,然后将预制好的浆料倒入每一个环形凹台面的内缘区域,以使浆料和环形凹台面平齐为准,从而使基材箔箔面的浆料厚度等于环形凹台面和基材箔箔面的距离值,然后将基材箔箔面上的浆料进行低温烘干处理,然后将板体和基材箔的箔面分离。
板体背离基材箔的板面为第一板面,为了使用上述方法,实验人员只需要事先准备一定厚度的板体,以使板体的材质和整体的机械强度满足实验需要,然后根据基材箔所要涂覆的浆料层的厚度,操作者自第一板面,在每一个通孔槽的内缘铣削板体材料,以修整出匹配浆料层厚度的环形凹台,而环形凹台被铣削面为环形凹台面。而修整完毕的板体就可以重复使用,制作烧结箔样片。
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