[实用新型]一种带真空破坏的真空吸盘

权利要求书

1.一种带真空破坏的真空吸盘，包括吸盘(1)、喷嘴(2)，其特征在于，还包括：

所述吸盘(1)底部内凹形成喷嘴安装位(13)，所述喷嘴(2)安装于所述喷嘴安装位(13)；所述喷嘴(2)与所述喷嘴安装位(13)之间的环形空隙形成气流通道(3)；所述喷嘴(2)上设置有轴向贯通所述喷嘴(2)的喷气孔(21)；所述喷嘴(2)的边缘设有一圈凸台，所述凸台的上表面与所述喷嘴安装位(13)接触，所述凸台还设置有喷射口(22)，所述喷射口(22)用于连通所述气流通道(3)与外界；

所述吸盘(1)表面设置有贯穿吸盘(1)的第一气流接口(11)、第二气流接口(12)；所述第一气流接口(11)与所述气流通道(3)导通；所述第二气流接口(12)与所述喷气孔(21)导通。

2.根据权利要求1所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述喷射口(22)有若干个，环设于所述凸台。

3.根据权利要求2所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述喷射口(22)为内嵌于所述凸台的上表面的凹槽。

4.根据权利要求2所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述喷射口(22)包括设置于所述凸台内部且末端互相导通的第一喷射通道(221)、第二喷射通道(222)。

5.根据权利要求4所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述第一喷射通道(221)的前端连接所述凸台的上表面，所述第二喷射通道(222)的前端连接所述凸台的侧面。

6.根据权利要求1所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：环绕所述喷嘴(2)侧面设置有第一密封槽(23)。

7.根据权利要求6所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述第一密封槽(23)内设置第一密封圈(231)，所述第一密封圈(231)用于封闭所述喷嘴(2)与所述喷嘴安装位(13)之间的空隙。

8.根据权利要求1所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述喷气孔(21)与所述第二气流接口(12)导通处的外侧环设有第二密封槽(24)。

9.根据权利要求8所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述第二密封槽(24)内设置有第二密封圈(241)，所述第二密封圈(241)用于封闭所述喷嘴(2)与所述喷嘴安装位(13)之间的空隙。

10.根据权利要求1所述的一种带真空破坏的真空吸盘，其特征在于：所述吸盘(1)上设置有贯通的第一安装孔(14)，所述喷嘴(2)上对应第一安装孔(14)设置有第二安装孔(25)，螺栓(4)穿过所述第一安装孔(14)、第二安装孔(25)将所述吸盘(1)与所述喷嘴(2)固定。