[实用新型]一种氯化铜再生反应用自动投药装置

说明书

本实用新型公开了一种氯化铜再生反应用自动投药装置，包括反应箱，所述反应箱顶面左侧和顶面右侧均固定插接有投药管，所述投药管顶面固定安装有第一电机，所述第一电机输出端固定连接有转轴，且转轴贯穿投药管顶面并延伸至投药管内部，且转轴表面通过轴承与投药管顶部转动连接，所述转轴底部固定连接有第一导流块，所述第一导流块顶面贯通开设有第一导流孔，所述投药管内壁底部固定连接有第二导流块。在使用中实现了便于在氯化铜再生反应中对盐酸和氧化剂投放量进行准确控制的效果，有效提升了反应过程的自动化程度，达到了便于使投放的盐酸和氧化剂与蚀刻液快速混合的目标，有效保障了氯化铜再生反应效率，实用性较好。

技术领域

本实用新型涉及上料装置技术领域，尤其涉及一种氯化铜再生反应用自动投药装置。

背景技术

在印刷电路板蚀刻过程中，蚀刻液中总铜和一价铜离子浓度增加，将会造成蚀刻能力逐渐下降。为保持理想的刻蚀能力，通常做法是对一部分蚀刻液进行化学再生，即向蚀刻液中添加化学氧化剂将一价铜氧化为二价铜。氯化铜再生反应是指对已经经过蚀刻的氯化铜浓度不达标的蚀刻液进行氯化铜再生，化学反应方程式为：CuCl₂+Cu→2CuCl，再生反应原理的化学反应方程式为：2CuCl+2HCl+H₂O₂→2CuCl₂+2H₂O。

传统的氯化铜再生反应过程中大多通过人工手动投放盐酸和氧化剂，人工投放费时费力，且难以对投放量进行准确控制，难以使投放的盐酸和氧化剂与蚀刻液快速混合，严重影响氯化铜再生反应效率。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种氯化铜再生反应用自动投药装置，解决了难以对投放量进行准确控制，难以使投放的盐酸和氧化剂与蚀刻液快速混合，导致氯化铜再生反应效率较低的问题。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

一种氯化铜再生反应用自动投药装置，包括反应箱，所述反应箱顶面左侧和顶面右侧均固定插接有投药管，所述投药管顶面固定安装有第一电机，所述第一电机输出端固定连接有转轴，且转轴贯穿投药管顶面并延伸至投药管内部，且转轴表面通过轴承与投药管顶部转动连接，所述转轴底部固定连接有第一导流块，所述第一导流块顶面贯通开设有第一导流孔，所述投药管内壁底部固定连接有第二导流块，且第二导流块顶面与第一导流块底面转动连接，所述第二导流块顶面贯通开设有第二导流孔，所述投药管侧壁固定插接有第一进料管，所述投药管内壁顶部设有超声波液位传感器，所述投药管正面固定安装有显示屏，且显示屏与超声波液位传感器电性连接，所述反应箱顶面中部固定安装有第二电机，所述第二电机输出端固定连接有电机轴，且电机轴贯穿反应箱顶部并延伸至反应箱内部，所述电机轴表面转动连接有轴承座，且轴承座与反应箱内壁固定连接，所述电机轴表面底部固定连接有搅拌叶片，所述反应箱左侧壁固定插接有第二进料管，所述反应箱底面固定插接有出料管，所述反应箱底面近四角处均固定连接有支撑腿。

优选的，所述电机轴表面通过轴承与反应箱转动连接。

优选的，所述搅拌叶片的数量为三个，且三个搅拌叶片以电机轴为对称轴呈中心对称分布。

优选的，所述第一导流孔和第二导流孔均为圆形通孔且规格相同。

优选的，所述出料管内部嵌设有阀门。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：