[实用新型]一种配合真空罐防止小分子材料返流的真空吸取装置

说明书

本实用新型涉及一种配合真空罐防止小分子材料返流的真空吸取装置，属于真空吸取技术领域。它包括真空室，真空室与被抽真空设备之间设置垫片，垫片的中部设置有抽真空开口，形状与真空室的底部开口相匹配，垫片包括第一垫片和第二垫片，第一垫片的厚度小于第二垫片；真空室内壁上设置有阻流筋，阻流筋倾斜设置形成导流区域，并在真空室的一侧壁上连接真空管；真空管的接口下沿水平高度低于阻流筋；真空室顶部设置有盖板，盖板为斜坡式结构，并在顶部开口的外围环绕设置密封圈；真空管另一端设置有快速接头，快速接头内径大于真空管内径，快速接头另一端连接到真空罐。本实用新型结构合理，操作简便，能够防止小分子材料的返流。

技术领域

本实用新型涉及一种配合真空罐防止小分子材料返流的真空吸取装置，属于真空吸取技术领域。

背景技术

现有技术下，在利用真空罐对含有小分子材料的设备实施真空吸取时，部分小分子材料常常会由于压力不足的原因而形成返流的现象，对于如何防止这种现象的产生，是目前社会急需要解决的问题。

例如专利公开号为CN212291293U的中国专利公开了一种轻量化真空罐，包括真空罐体，所述真空罐体的底部设有支撑立架，所述支撑立架与所述真空罐体固定连接，所述真空罐体的左右两侧对称设有加强柱管，所述加强柱管与所述真空罐体通过焊接的方式连接，所述加强柱管的外侧连接承重垫板，所述承重垫板的底部连接活动撑杆，所述活动撑杆的底部连接调节液压缸，所述真空罐体的正面设有调压法兰盘，所述调压法兰盘与所述真空罐体固定连接，所述真空罐体的顶部设有调压柱管，所述调压柱管的内部设有活动阀杆。

上述专利的设备便于调整高度，同时易于运转，结构简单，实用性强；但是针对特定条件下，即小分子返流现象的产生，则无法避免。

因此，为解决上述背景问题，研发一种配合真空罐防止小分子材料返流的真空吸取装置是迫在眉睫的。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决上述背景问题中提出的问题，提供一种配合真空罐防止小分子返流的真空吸取装置，它结构合理，操作简便，能够防止小分子材料的返流。

本实用新型的目的是这样实现的：一种配合真空罐防止小分子材料返流的真空吸取装置，包括真空室，真空室与被抽真空设备之间设置垫片，垫片的中部设置有抽真空开口，形状与真空室的底部开口相匹配，垫片包括第一垫片和第二垫片，第一垫片的厚度小于第二垫片；

真空室内壁上设置有阻流筋，阻流筋倾斜设置形成导流区域，并在真空室的一侧壁上连接真空管；

真空管的接口下沿水平高度低于阻流筋；真空室顶部设置有盖板，盖板为斜坡式结构，并在顶部开口的外围环绕设置密封圈；

真空管另一端设置有快速接头，快速接头内径大于真空管内径，快速接头另一端连接到真空罐。

所述第一垫片和第二垫片的数量均为至少一个，并通过螺栓与被抽真空设备之间固定。

所述盖板通过转轴与真空室旋转连接；

所述转轴的两端还设置有限位夹片。

所述盖板上还设置有把手，所述把手的外围还环绕设置有隔热橡胶圈。

所述真空管上还设置有真空表。

所述第一垫片和第二垫片均采用黄铜片。

相比于现有技术，本实用新型具有以下优点：

本实用新型的垫片采用不同厚度的黄铜片，可以任意组合形成各种高度，可以满足不同材料吸附的高度要求，黄铜有一定的延展和压缩性，安装后可以保证真空室和设备之间的密封性；