[实用新型]异形溅射靶材

说明书

提供一种异形溅射靶材，包括靶材基体；靶材基体为立方体结构，且靶材基体的溅射面背面中心具有导向定位槽；导向定位槽槽形横截面为T形结构。本实用新型结构简单，装配牢固可靠，具备定位导向装配功能。有助于提升靶材利用率，降低溅射靶材的相对损耗。

技术领域

本实用新型属于化学冶金对金属材料的镀覆技术领域，具体涉及一种异形溅射靶材。

背景技术

溅射靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下，溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于装饰、工模具、剥离、电子器件、半导体、磁记录、平面显示、太阳能电池等诸多领域，且不同领域需要的靶材各不相同。

在溅射过程中，靶材作为阴极，是高速荷能粒子轰击的目标材料，平面磁控溅射过程中，由于正交电磁场对溅射离子的作用关系，靶材装配的便捷程度以及定位精度，有助于提高靶材溅射面的材料利用率和溅射镀膜质量。对此，现提出如下技术方案。

发明内容

本实用新型解决的技术问题：提供一种异形溅射靶材，采用导向定位槽3套装溅射靶材，解决溅射靶材的定位导向安装问题，提高靶材溅射面的材料利用率和溅射镀膜质量。

本实用新型采用的技术方案：异形溅射靶材，包括靶材基体；靶材基体为立方体结构，且靶材基体的溅射面背面中心具有导向定位槽；导向定位槽槽形横截面为T形结构。

上述技术方案中，优选地：靶材基体为钛基体靶材。

上述技术方案中，进一步地：靶材基体的晶粒度小于100μm。

上述技术方案中，进一步地：导向定位槽的槽体深度小于等于三分之一靶材基体的溅射厚度。

本实用新型与现有技术相比的优点：

1、本实用新型靶材作为阴极，是高速荷能粒子轰击的目标材料；装配定位难度降低，同时有助于靶材利用率提升，溅射靶材的相对损耗减小。

2、本实用新型导向定位槽用于靶材不均匀冲蚀损耗后的导向升降调节使用，防止靶材调整换位后出现倾斜，提高靶材利用率。

附图说明

图1为本实用新型立体结构示意图。

图中：1-靶材基体，2-溅射面，3-导向定位槽。

具体实施方式

下面结合附图1描述本实用新型的具体实施例。

（如图1所示）异形溅射靶材，包括靶材基体1。靶材基体作为阴极，是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于镀膜溅射。

上述实施例中，优选地：所述靶材基体1为钛基体靶材。以实现钛薄膜产品的溅射制作。

本实用新型的改进点在于：所述靶材基体1为立方体结构，具有足够厚度。且靶材基体1的溅射面2背面中心具有导向定位槽3；从字面理解，导向定位槽3起到靶材安装时的定位支撑和导向作用。

在此基础上，为保证靶材定位以及调节安装的可靠性和稳定性：所述导向定位槽3槽形横截面为T形结构。

上述实施例中，进一步地：所述靶材基体1的晶粒度小于100μm。以满足溅射薄膜成型的致密程度。

上述实施例中，进一步地：所述导向定位槽3的槽体深度小于等于三分之一靶材基体1的溅射厚度。在保证导向定位槽3导向定位功能的同时，提高靶材的利用率。

本实用新型的工作原理为：将靶材的导向定位槽3与靶材固定机构进行固定。将靶材溅射面2作为阴极，为高速荷能粒子轰击的目标面。实现钛薄膜溅射制作。