[实用新型]合成膜加工防沉积料槽有效
申请号: | 202121137313.3 | 申请日: | 2021-05-25 |
公开(公告)号: | CN214718048U | 公开(公告)日: | 2021-11-16 |
发明(设计)人: | 胡潇茹;谢天洋;熊瑞斌;董添 | 申请(专利权)人: | 浙江仁丰科技有限公司 |
主分类号: | B05C11/11 | 分类号: | B05C11/11;B05C11/10;B01F7/08;B01F15/00 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 岳兵 |
地址: | 315000 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 合成 加工 沉积 | ||
本实用新型涉及合成膜加工技术领域,公开了合成膜加工防沉积料槽,包括进料槽,所述进料槽内转动连接有传送辊,所述进料槽内还设有搅拌单元,所述搅拌单元位于所述传送辊的下方,所述搅拌单元包括搅拌轴和搅拌带,所述搅拌轴与所述传送辊相互平行设置,所述搅拌带呈螺旋状固定在搅拌轴上。本实用新型能够对料槽内的溶剂进行搅拌打散,以保持料槽内的溶剂浓度的均匀性。
技术领域
本实用新型涉及合成膜加工技术领域,具体涉及一种合成膜加工防沉积料槽。
背景技术
目前在对于合成膜的加工过程中,根据不同客户需求,有些需要在合成膜上涂覆一层绝缘溶剂,从而形成绝缘膜。然而由于要控制绝缘膜的厚度,涂覆绝缘溶剂时需要用刮刀刮除超厚部分的溶剂,而被刮除的溶剂会再掉落到料槽中,由于这部分被刮除的溶剂因挥发或带有颗粒等原因,容易形成沉淀,导致料槽内的溶剂浓度不均匀。
实用新型内容
本实用新型意在提供合成膜加工防沉积料槽,以保持料槽内的溶剂浓度均匀。
为达到上述目的,本实用新型采用如下技术方案:合成膜加工防沉积料槽,包括进料槽,所述进料槽内转动连接有传送辊,所述进料槽内还设有搅拌单元,所述搅拌单元位于所述传送辊的下方,所述搅拌单元包括搅拌轴和搅拌带,所述搅拌轴与所述传送辊相互平行设置,所述搅拌带呈螺旋状固定在搅拌轴上。
本方案的原理及优点是:实际应用时,本方案中通过驱动搅拌轴转动,从而带动搅拌带转动,这样搅拌带就能够对进料槽内的溶剂起到搅拌的作用,进而防止溶剂产生沉积的问题,同时还可以对颗粒的溶剂起到打散的作用,从而提高了整个进料槽内的溶剂的均匀程度,同时避免因为溶剂里面含有颗粒而影响涂覆在合成膜表面后造成合成膜表面凹凸不平的情况。
由于本方案中的进料槽能够防止溶剂沉淀,且能够对溶剂起到搅拌的作用,从而避免产生涂覆在合成膜上的溶剂不均匀的问题。
本方案中的搅拌带呈螺旋状,由于本方案中的搅拌轴与传送辊相互平行,即通常情况下搅拌轴为水平设置的状态,这样将搅拌带设置成螺旋状,能够对进料槽内溶剂的上下两层起进行单向的搅动,两层交汇处会形成剪切运动,有利于打散颗粒和沉淀。
优选的,作为一种改进,所述搅拌带上开设有若干个网孔。
如此设置能够使搅拌带起到过滤网的作用,在搅拌的过程中,使未被打散的颗粒物位于网孔处,这样能够避免颗粒物涂覆在合成膜表面。
优选的,作为一种改进,所述搅拌带上固定连接有多个搅拌齿。
搅拌齿的设置能够加强对溶剂内颗粒物的打散作用。
优选的,作为一种改进,所述搅拌轴上沿其轴向连接有多个支撑板,支撑板远离搅拌轴的一端均与所述搅拌带连接。
如此设置,本方案中支撑板的设置能够对搅拌带起到支撑的作用,从而增强搅拌带在转动过程中对溶剂的搅拌力度,能够进一步提高对颗粒或沉淀的打散作用。
优选的,作为一种改进,所述传送辊上设有两个限位板,所述限位板均能够沿着传送辊的轴向滑动,所述限位板的两端分别与所述进料槽的两侧壁水平滑动配合。
如此设置,由于合成膜在涂覆上溶剂后,会在合成膜的边缘处额外的形成一层溶剂,从而导致合成膜上产生多余的溶剂层,而本方案中通过滑动限位板能够使两个限位板之间的距离与合成膜的宽度大致相等,从而使限位板能够限制合成膜边缘产生多余的溶剂层,进而避免溶剂的浪费以及后期对合成膜边缘进行刮料的成本。
优选的,作为一种改进,所述搅拌单元设有多个,多个搅拌单元水平并排设置。
如此设置,能够提高对进料槽内的搅拌力度,从而提高对溶剂的搅拌效率,使溶剂内的颗粒或沉淀能够更加快速的被打散。
优选的,作为一种改进,多个搅拌单元中的搅拌轴上均连接有齿轮,且相邻两个搅拌轴上的齿轮相互啮合。
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